[发明专利]检验设备、光刻设备、光刻处理单元以及检验方法

权利要求书

1.一种检验设备，其配置用以测量衬底的属性，所述设备包括：

照射系统，其配置用以提供辐射束；

辐射投影装置，其配置用以将所述辐射束投影到所述衬底上；

高数值孔径透镜，其数值孔径大于0.9；

探测器，其配置用以探测从所述衬底的表面反射的所述辐射束并且分 离地探测零衍射级和更高衍射级；

其中，由所述辐射投影装置投影的辐射束的照射轮廓使得能够使用所 述分离地探测的零衍射级和更高衍射级来重建标记的至少一个特征，

其中所述照射轮廓具有四个相等的扇形，两个不相邻的扇形被照射而 其他两个不相邻的扇形不被照射。

2.如权利要求1所述的检验设备，其中，所述更高衍射级是第一衍 射级。

3.如权利要求1所述的检验设备，其中，所述照射系统配置所述辐 射束以具有所述辐射轮廓。

4.如权利要求1所述的检验设备，所述衬底具有具有对称线的标记， 所述照射轮廓的虚拟线平行于所述标记的对称线。

5.如权利要求2所述的检验设备，其中，所述数值孔径配置成堵塞 所述辐射束的与辐射投影装置的光瞳面中所述第一衍射级被探测的区域 相对应的部分。

6.一种光刻设备，包括：

照射光学系统，其布置用以照射图案；

投影光学系统，其布置用以将所述图案的图像投影到衬底上；和

如权利要求1所述的检验设备。

7.一种光刻单元，包括：

涂布器，其布置用以给衬底涂覆辐射敏感层；

光刻设备，其布置用以将图像曝光到衬底的由涂布器涂覆的辐射敏感 层上；

显影装置，其布置用以显影由光刻设备曝光的图像；和

如权利要求1-5中任一项所述的检验设备。

8.如权利要求7所述的光刻单元，其中，数值孔径配置成堵塞所述 辐射束的与辐射投影装置的光瞳面中为更高衍射级的第一衍射级被探测 的区域相对应的部分。