[发明专利]一种致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉

权利要求书

1.一种致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉，其特征在于：是将PEG-1000、复方珍珠粉、60g/L硅酸钠溶液和10.7％硫酸溶液经过打浆、研磨、包膜处理、水洗、干燥、气流粉碎后而制成，其中按质量比计各组分的份数比例为：

PEG-1000        3.5～5

复方珍珠粉      0.8～1.5

60g/L硅酸钠溶液 0.8～1.5

10.7％的硫酸    0.8～1.5

所述复方珍珠粉是将金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液混合后喷淋至粒径小于200纳米的纳米珍珠粉上，经过干燥、粉碎而制成，其原料按重量百分比计分别为：金盏花提取液5％～9％、马齿苋提取液5％～9％、芦荟提取液5％～9％、甘草提取液5％～9％，余量为纳米珍珠粉。

2.一种权利要求1所述的致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉的制备方法，其特征在于，其步骤如下：

1)、按配比取金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液进行混合得到混合液，取粒径小于200纳米的纳米珍珠粉铺成薄薄的一层，然后把混合液均匀喷淋在纳米珍珠粉上，经烘干、粉碎得到复方珍珠粉；

2)、按配比取PEG-1000加入搅拌锅中，加热至45～50℃，加入复方珍珠粉，搅拌均匀制成珍珠粉浆液；将珍珠粉浆液进行碾磨充分后加入搅拌锅中，加热至85℃～90℃，将60g/L的硅酸钠溶液加入，搅拌均匀，再缓慢加入10.7％的硫酸溶液，搅拌后降温至40℃以下，放出料液，陈化45～50小时后水洗过滤，烘干并通过气流粉碎得到致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉。