[发明专利]显示控制设备和显示控制方法有效

专利信息
申请号: 201010111908.1 申请日: 2010-01-28
公开(公告)号: CN101788884A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 高木阳介 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G06F3/048 分类号: G06F3/048
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 代理人: 刘新宇;陈立航
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 控制 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种显示控制设备,包括:

显示控制部件,用于进行控制,以使得将配置在包括多个 列和多个行的矩阵中的多个图像显示在显示部件上;

改变部件,用于将所述矩阵从第一矩阵改变成第二矩阵, 在所述第二矩阵中,列的数量、行的数量或者列和行这两者的 数量不同于所述第一矩阵;以及

控制部件,用于在通过所述改变部件进行了改变时,将所 述第二矩阵中与所述第一矩阵中选择的图像所处的列和行相对 应的位置选取为基准位置,并且控制所述显示控制部件在所述 第二矩阵中配置所述多个图像的位置,以使得所述选择的图像 位于所述基准位置,从而确保所述选择的图像在被呈现时在所 述第一矩阵和所述第二矩阵中位于基本相同的位置。

2.根据权利要求1所述的显示控制设备,其特征在于,所 述控制部件包括计算部件,所述计算部件用于基于所述第一矩 阵中所述选择的图像所处的列和行、所述第一矩阵中的列和行 的数量以及所述第二矩阵中的列和行的数量,来计算所述基准 位置。

3.根据权利要求2所述的显示控制设备,其特征在于,所 述计算部件用于计算所述基准位置的行和列,以使得所述基准 位置的行和所述第二矩阵中的行的数量之间的比对应于所述第 一矩阵中所述选择的图像所处的位置的行和所述第一矩阵中的 行的数量之间的比,且使得所述基准位置的列和所述第二矩阵 中的列的数量之间的比对应于所述第一矩阵中所述选择的图像 所处的位置的列和所述第一矩阵中的列的数量之间的比。

4.根据权利要求1所述的显示控制设备,其特征在于,

所述基准位置的行是基于通过如下运算所获得的值的行: 将所述第二矩阵中的行的数量除以所述第一矩阵中的行的数 量,然后将该除法的结果乘以所述第一矩阵中所述选择的图像 所处的位置的行的值;以及

所述基准位置的列是基于通过如下运算所获得的值的列: 将所述第二矩阵中的列的数量除以所述第一矩阵中的列的数 量,然后将该除法的结果乘以所述第一矩阵中所述选择的图像 所处的位置的列的值。

5.根据权利要求1所述的显示控制设备,其特征在于,

在所述第一矩阵中所述选择的图像所处的行是所述第一矩 阵的端部的行的情况下,所述控制部件使用与所述第一矩阵中 所述选择的图像所处的端部的行相对应的所述第二矩阵的端部 的行,作为所述基准位置的行;以及

在所述第一矩阵中所述选择的图像所处的列是所述第一矩 阵的端部的列的情况下,所述控制部件使用与所述第一矩阵中 所述选择的图像所处的端部的列相对应的所述第二矩阵的端部 的列,作为所述基准位置的列。

6.根据权利要求1所述的显示控制设备,其特征在于,当 通过所述改变部件进行了改变时,所述控制部件控制所述显示 控制部件按照特定顺序在所述第二矩阵中配置所述多个图像, 以使得所述选择的图像位于所述基准位置。

7.根据权利要求1所述的显示控制设备,其特征在于,还 包括:

记录控制部件,用于进行控制,以使得将所述选择的图像 在矩阵中的位置与该矩阵相关联地记录在存储部件中,并且在 改变了所述选择的图像的情况下,清除与除当前矩阵以外的矩 阵相关联记录的位置,并且将与所述当前矩阵相关联记录的位 置重新记录为改变后的选择的图像在所述当前矩阵中所处的位 置,

其中,在已通过所述改变部件将所述第一矩阵改变成所述 第二矩阵并且已通过所述记录控制部件将与所述第二矩阵相关 联的位置存储在所述存储部件中的情况下,所述控制部件使用 所存储的位置作为所述基准位置。

8.根据权利要求1所述的显示控制设备,其特征在于,当 通过所述改变部件进行了改变时,所述显示控制部件进行控制, 以使得在所述第二矩阵中显示表示所述基准位置的识别显示, 直到将所述选择的图像显示在所述第二矩阵中的所述基准位置 为止。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010111908.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top