[发明专利]四片多仕炉无效
申请号: | 201010105899.5 | 申请日: | 2010-01-28 |
公开(公告)号: | CN101862133A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 施军达;张华平 | 申请(专利权)人: | 施军达 |
主分类号: | A47J37/08 | 分类号: | A47J37/08 |
代理公司: | 宁波市天晟知识产权代理有限公司 33219 | 代理人: | 张文忠 |
地址: | 315420*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 四片多仕炉 | ||
1.四片多仕炉,包括壳体组件(1)和加热组件(2),其特征是:所述的加热组件(2)包括两个加热单元,每个加热单元包括两个并排设置的加热腔体(201)以及设置在加热腔体(201)内的加热网架(202),在每个加热腔体(201)的上端制有用于放入面包的长条形开口;每个加热单元对应设置有一个独立的控制单元(3),所述的控制单元(3)包括一个控制对应加热单元加热时间的旋钮开关(301)和一个控制对应加热单元加热的按钮开关(302),在所述的加热腔体(201)的内部设置有随按钮开关(302)上下滑动的托架(207)。
2.根据权利要求1所述的四片多仕炉,其特征是:所述的壳体组件(1)包括带有两侧边的外壳(101)、与外壳(101)前后端相配合的前盖(102)和后盖(103)以及用于密封底部的底板(104);所述外壳(101)的上端面制有开口(101a)。
3.根据权利要求2所述的四片多仕炉,其特征是:所述前盖(102)的外表面分别制有两个并排的凹形面(102a),在两个凹形面(102a)的下部分别制有弧面凸起部(102c),每个控制单元(3)的旋钮开关(301)分别转动设置在对应的弧面凸起部(102c)上,每个控制单元(3)的按钮开关(302)滑动设置在对应的凹形面(102a)上。
4.根据权利要求3所述的四片多仕炉,其特征是:所述的加热组件(2)包括一个前板(204)和一个后板(205),在前板(204)和后板(205)之间相并排间隔设置有发热架(203),发热架(203)构成所述加热腔体(201)的侧壁;在壳体组件(1)内壁固定连接有发热架支架(206),发热架支架(206)上制有固定凹槽(206a),所述的发热架(203)四边制有凸缘(203a),发热架(203)上下两边的凸缘(203a)插接在发热架支架(206)的固定凹槽(206a)内,在发热架(203)的四周制通孔,所述的加热网架(202)通过通孔固定在发热架(203)的加热侧面上。
5.根据权利要求4所述的四片多仕炉,其特征是:在前盖(102)的两个弧面凸起部(102c)上制有通孔,每个控制单元(3)的旋钮开关(301)穿过相应通孔与壳体组件(1)内的旋钮座(307)转动配合,在旋钮座(307)上固定有与旋钮开关(301)相连接的电位器(308)。
6.根据权利要求5所述的四片多仕炉,其特征是:在所述前盖(102)的两个凹形面(102a)处分别制有竖直的长条形凹槽(102b),每个控制单元(3)的按钮开关(302)为固定在按钮推杆(303)外端的扁平形按钮,按钮推杆(303)与长条形凹槽(102b)滑动配合,且按钮推杆(303)的内端与滑块(304)连接配合;在前板(204)上固定有导向杆(305),所述的滑块(304)滑动设置在导向杆(305)上,并与套设在导向杆(305)上的复位弹簧(306)相连接。
7.根据权利要求6所述的四片多仕炉,其特征是:在每个控制单元(3)的滑块(304)下方分别固定有底座(309),在底座(309)上固定有电磁铁(310),电磁铁(310)的向外延伸出两弹性导磁触片(310a),在弹性导磁触片(310a)的触接端下方固定PCB板(311),PCB板(311)上制有能与弹性导磁触片(310a)吸合的导磁接头(311a),在底座(309)上铰接有用于压合弹性导磁触片(310a)的磁铁支架(312),该磁铁支架(312)的自由端与滑块(304)相连接。
8.根据权利要求7所述的四片多仕炉,其特征是:所述前板(204)和后板(205)的竖直方向设置有滑槽(208),所述的托架(207)的两端分别与前板(204)和后板(205)的滑槽(208)滑动配合,并与加热腔体(201)外的滑块(304)固定连接。
9.根据权利要求8所述的四片多仕炉,其特征是:所述的加热网架(202)与导线电连接,所述的导线设置在纤维套管(4)内。
10.根据权利要求9所述的四片多仕炉,其特征是:所述的加热组件(2)与壳体组件(1)之间固定设置有隔热片(5)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于施军达,未经施军达许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010105899.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:应答消息的反馈方法及装置
- 下一篇:氧化层制造方法