[发明专利]高数据密度光记录介质有效

专利信息
申请号: 201010103906.8 申请日: 2010-01-25
公开(公告)号: CN101789244A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 尼特尔·乔基姆;纳普曼·斯蒂芬 申请(专利权)人: 汤姆森特许公司
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 法国布洛涅*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 数据 密度 记录 介质
【权利要求书】:

1.一种光记录介质(20),包括沿着轨(23)设置的标记(21),其特征 在于,

所述标记(21)突出于所述光记录介质(20)的表面并具有尖端或者尖 端的序列,并且由材料(22)覆盖,所述材料(22)在强电场的影响下生成 光可测效应,所述强电场在读光束(2)的焦点处生成。

2.根据权利要求1所述的光记录介质(20),其中,

覆盖所述标记的所述材料(22)是荧光材料、用于生成二次谐振的材料 或者引发偏振变化的材料。

3.根据权利要求1或者2所述的光记录介质(20),其中,

所述标记(21)具有角锥形状或者圆锥形状。

4.根据权利要求1或者2所述的光记录介质(20),其中,

所述光记录介质(20)是具有至少一记录区域的可记录介质,所述至少 一记录区域设有标记(21),所述标记(21)具有可转化为钝化状态的尖端。

5.根据权利要求1或者2所述的光记录介质(20),其中,

较长标记(21)由相邻的或者部分交叠的标记的序列组成,或者具有拉 长的基底部分,所述基底部分上排列有两个或者更多的相邻的或者交叠的标 记。

6.根据权利要求1或者2所述的光记录介质(20),其中,

所述标记(21)还被金属材料覆盖。

7.一种从权利要求1或2的光记录介质(20)读的设备,所述设备包括:

用来生成读光束(2)的光源(1),束成形器(4),用来将所述读光束(2) 转化成为圆环形状光束,以及

物镜(7),用来以所述圆环形状的光束照射位于所述光记录介质(20) 上的标记(21),

其特征在于:所述设备还包括探测器(9),用来探测在所述光记录介质 (20)处生成的二次谐振光、荧光或者其偏振方向旋转的光。

8.根据权利要求7所述的设备,还包括二向色性或者偏振束分离器(6), 用来将所述二次谐振光、所述荧光或者所述其偏振方向旋转的光与反射的读 光线分离。

9.一种从权利要求1或2的光记录介质(20)读的方法,包括步骤:

-生成读光束(2),

-将所述读光束(2)转化成为圆环形状光束,

-用所述圆环形状光束服射位于所述光记录介质(20)上的标记(21), 以及,

-探测在光记录介质(20)处生成的二次谐振光、荧光或者其偏振方向旋 转的光。

10.一种对权利要求1或2的光记录介质(20)写入的设备,具有用来 生成写光束(2)的光源(1),其特征在于:

所述设备还包括处理器(12),用来生成将被写入所述光记录介质(20) 的倒反数据图案,从而用所述写光束(2)将位于所述光记录介质(20)上 的标记(21)转化为惰性的状态。

11.一种对权利要求1或2的光记录介质(20)写入的方法,包括步骤,

-生成将被写入所述光记录介质(20)的倒反数据图案,

-生成与所述倒反数据图案相应的写光束(2),以及

-用所述写光束(2)将位于所述光记录介质(20)上的标记(21)转化为惰 性的状态。

12.一种母板制作权利要求1或者2的光记录介质的方法,包括步骤:

-设置具有保护层(31)的晶体晶片(30),

-形成所述保护层(31)的掩模(31′),

-通过所述掩模(31′)非各向异性蚀刻所述晶片(30),从而形成倒反标记,每 个所述标记都形成有尖端,以及

-去除所述掩模(31′)。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,

形成所述保护层(31)的掩模(31′)的所述步骤包括母板制作位于所述倒 反标记(33)位置处的孔(37)或者孔(37)的序列,所述孔(37)的尺寸 小于所述倒反标记(33)的预期尺寸。

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