[发明专利]一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法

权利要求书

1.一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于：该方法包含以下步骤：

(1)将聚乙烯醇或者聚乳酸溶于水，加热使其溶解，然后向体系中添加纳米银。加热超声使其分散均匀；

(2)通过加热回流去除溶剂，取出真空干燥后研磨成粉；

(3)将上述和树脂混合，通过螺杆挤出，制备可光降解抗菌母粒。

2.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(1)中所用纳米银为水溶性纳米银粉体，或者为水溶性纳米银水，乙醇，丙酮，三氯甲烷等至少其中一种溶剂的分散液。

3.如权利要求项2所述的纳米银，其特征在于其粒径为2-200nm。

4.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(1)中所用聚乙烯醇的聚合度为500-2500；聚乳酸的分子量为10000-5000。

5.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(1)中所用的纳米银与聚乳酸或者聚乙烯醇重量比为1∶10-10000。

6.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(1)中所用的溶剂可以是水，丙酮，甲醇，乙醇，乙二醇，二氯甲烷，三氯甲烷中的一种或两种以上混合溶剂。

7.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(2)中所用的加热回流温度为50-150℃。

8.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(2)中所用真空干燥的真空度为100以上。

9.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(2)中研磨粉体的粒径为：0.1μm-5μm。

10.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(3)中所述的树脂为聚丙烯，聚乙烯，PET，PTT，PBT，PA6，PA66，PVA，PVC，PCL等合成高分子树脂也可以是纤维素等天然高分子树脂或者是其至少两种的混合物。 

11.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(3)中所述的研磨所得粉末与树脂的重量比为：1∶10-10000。

12.根据权利要求项1所述的一种新型可光降解抗菌母粒的制备方法，其特征在于；步骤(3)中所述的螺杆挤出温度为：100-350℃。

13.一种新型可光降解抗菌母粒，其特征在于，它主要用于食品包装袋或瓶，包装材料及包装材料。

14.根据权利要求项12所述的一种新型可光降解抗菌母粒，其特征在于：该抗菌母粒具有永久抗菌性。