[发明专利]具有侦测窗的研磨垫及其制造方法有效
申请号: | 201010003339.9 | 申请日: | 2010-01-21 |
公开(公告)号: | CN102133734A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 白昆哲;李炫宗;王昭钦;杨伟文 | 申请(专利权)人: | 智胜科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24D3/00;B24D11/00;B24D18/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 侦测 研磨 及其 制造 方法 | ||
1.一种具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,包括:
预置一拟侦测窗在一模具内;
在该模具中填入一研磨层前驱物并进行固化程序以形成一研磨层,该拟侦测窗与该研磨层两者之间可完全分离;
分离该拟侦测窗与该研磨层,以在该研磨层中形成一侦测窗开口;以及
灌注一侦测窗前驱物在该侦测窗开口中并进行固化程序以形成一侦测窗。
2.根据权利要求1所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该拟侦测窗与该研磨层的表面能量差大于10mN/m。
3.根据权利要求1或2所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该研磨层的材料为极性材料,而该拟侦测窗的材料为非极性材料或弱极性材料。
4.根据权利要求3所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该拟侦测窗的材料包括含氟聚合物、聚硅氧烷、高密度聚乙烯、低密度聚乙烯或聚丙烯。
5.根据权利要求1或2所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该拟侦测窗的材料为可分解或可溶解材料。
6.根据权利要求5所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该拟侦测窗的材料包括聚乙烯醇、聚乳酸、聚醣、环糊精、聚苯乙烯或盐类。
7.根据权利要求1或2所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该拟侦测窗为不透明,包括黑色、红色、蓝色、或其他深色系。
8.根据权利要求1或2所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该研磨层的材料包括聚酯、聚醚、聚胺酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚丁二烯、环氧树脂、不饱和聚酯或乙烯-乙酸乙烯酯共聚合物。
9.根据权利要求1或2所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该侦测窗的材料可使600~700nm波长的光线具有至少50%的穿透率。
10.根据权利要求1或2所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该侦测窗的材料可使400~700nm波长的光线具有至少50%的穿透率。
11.根据权利要求1或2所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该侦测窗开口为一贯穿开口或一凹洞开口。
12.一种具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,包括:
提供一模具,该模具具有一凸起结构;
在该模具中填入一研磨层前驱物并进行固化程序以形成一研磨层,其中该凸起结构在该研磨层中定义出一侦测窗开口;以及
灌注一侦测窗前驱物在该侦测窗开口中并进行固化程序以形成一侦测窗。
13.根据权利要求12所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该侦测窗开口为一贯穿开口或一凹洞开口。
14.根据权利要求12或13所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该侦测窗的材料可使600~700nm波长的光线具有至少50%的穿透率。
15.根据权利要求12或13所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该侦测窗的材料可使400~700nm波长的光线具有至少50%的穿透率。
16.根据权利要求12或13所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,该研磨层的材料包括聚酯、聚醚、聚胺酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚丁二烯、环氧树脂、不饱和聚酯或乙烯-乙酸乙烯酯共聚合物。
17.一种具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,包括:
提供一研磨层,该研磨层已预形成有一侦测窗开口;
在该侦测窗开口中置入一侦测窗,其中该侦测窗的周围侧面与该侦测窗开口的内侧面间存有一间隙;以及
在该间隙内灌注一缓冲层。
18.根据权利要求17所述的具有侦测窗的研磨垫制造方法,其特征在于,在该研磨层预形成该侦测窗开口的方法包括:
预置一拟侦测窗在一模具内;
在该模具中填入一研磨层前驱物并进行固化程序以形成该研磨层,其中该拟侦测窗与该研磨层两者之间可完全分离;以及
分离该拟侦测窗与该研磨层,以在该研磨层中形成该侦测窗开口。
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