[发明专利]高纯气(或电子气)中痕量气态杂质分析方法和装置

权利要求书

1.一种与传统制冷方法不同的测试高纯气体中痕量水的露点分析方法。其特征在于用液氮浸渍，冷却传冷捧，最终使镜面冷却的制冷方法。

2.按照权利1所述方法，控制镜面降温速率，其特征是可以把测试的灵敏度提高到-120-130℃(＜0.00013PPM)，测试精度为±2℃以内。

3.按照权利1和2所述方法，为了提高测试的灵敏度，必须控制镜面降温速率(即℃/分)来加以保证，控制镜面降温速率可以用微机或手动，最低降温速率为1-2℃/分。方法适用于氢、氧、氮、氩、氦、硅烷、磷烷、硼烷、气态氟化物、气态氯化物....等电子气中有害杂质痕量水的分析。

4.一种在常规的气相色谱法中附加气体浓缩取样器的高纯气体中痕量气态杂质的分析方法。其特征比常规气相色谱法的灵敏度提高1-3个数量级，一般测试的灵敏度达到0.1-0.0001PPM。

在分析痕量易吸附的杂质气(重组分)和大量不易吸附的分析气(轻组分)时，本发明是很容易进行浓缩方法；而对于大量易吸附的杂质气(重组分)和痕量不易吸附的分析气(轻组分)时，必须采用色谱切割反吹方法来解决，或者选择合适吸附剂和色谱的检测器，提高气态杂质分析的灵敏度和选择性，或者减少浓缩取样量。利用这一方法，可以应用于电子气氢、氧、氮、氩、氦、硅烷、磷烷、硼烷、砷烷、氨、三甲基硼、气态氟化物、气态氯化物....等电子气，也适合于环保和石化气体中痕量杂质分析。

5.按照权利4所述方法，控制浓缩取样器的低温条件和更换浓缩取样器内的吸附剂，同时采取色谱的切割反吹方法，将增加分析高纯气体中杂质的选择性。

6.按照权利4所述方法，利用氢焰或其他色谱检测器，对于分析气(基体)和杂质不同灵敏度的差异，排除基体对杂质分析的干扰，从而提高分析高纯气体中杂质的灵敏度和选择性。

7.按照权利4所述方法，本发明的浓缩取样器可以直接与气相色谱仪相连接(近程)，也可以把浓缩取样器在远处取样后，再连接到气相色谱仪上进样分析。