[发明专利]基于衍射光栅的光学装置有效

专利信息
申请号: 200980161441.7 申请日: 2009-09-23
公开(公告)号: CN102483476A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 李晶晶;戴维·A·法塔勒;雷蒙德·G·博索雷;马科斯·菲奥伦蒂诺 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 于未茗;罗正云
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 衍射 光栅 光学 装置
【权利要求书】:

1.一种光学装置(100、1900),包括:

第一近似平面的反射结构(104、1904);

第二近似平面的反射结构(106、1906);以及

布置于所述第一反射结构和所述第二反射结构之间的近似平面的亚波长光栅层(102、1902),其中所述光栅层被配置有线条(208-211、214-217),线条宽度、线条厚度和线条周期间隔被选择以控制透过所述光学装置的光束的不同部分的相变。

2.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述第一反射结构和所述第二反射结构为反射板(104、106)。

3.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述第一反射结构和所述第二反射结构中的至少一个被配置为亚波长光栅层(1904、1906)。

4.根据权利要求1所述的光学装置,进一步包括:

由将所述第一反射结构与所述光栅层分开的空间形成的第一谐振腔(108、1908);以及

由将所述第二反射结构与所述光栅层分开的空间形成的第二谐振腔(110、1910)。

5.根据权利要求4所述的光学装置,其中

所述第一谐振腔和所述第二谐振腔充满空气;或

所述第一谐振腔和所述第二谐振腔充满折射率低于与所述第一反射结构、所述第二反射结构和所述光栅层相关的折射率的材料。

6.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述光栅层进一步包括基板(212),光栅图案布置在所述基板的一表面上,且所述光栅图案形成在折射率高于所述基板的折射率的材料中。

7.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述光栅层进一步包括膜。

8.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述光栅图案进一步包括一维线条图案。

9.根据权利要求3所述的光学装置,其中所述一维线条图案进一步包括一个以上的线条子区域(201-203),每个子区域内的线条都具有选定的周期和线条宽度。

10.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述线条宽度、线条厚度和线条周期间隔被选择以形成凸透镜(1000、1300)。

11.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述线条宽度、线条厚度和线条周期间隔被选择以形成凹透镜(1800)。

12.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述线条宽度、线条厚度和线条周期间隔被选择以形成棱镜(1700)。

13.一种利用计算装置制作光学装置的亚波长光栅层的方法,该方法包括:

利用所述计算装置计算所述光学装置上的期望目标相变(1204、1404、1504),所述目标相变对应于透过所述光学装置的光束的期望波前形状;

利用所述计算装置产生与所述光栅层上的所述目标相变对应的线条宽度、线条周期间隔和线条厚度(1206、1406、1506);以及

利用所述计算装置产生坐标集合(1207-1213、1407-1417、1508-1515),每个坐标标识具有一线条宽度、线条周期间隔和线条厚度的线条的位置。

14.根据权利要求13所述的方法,进一步包括:

沉积与平面第一反射结构对应的第一材料层;

在所述第一层上沉积第一聚合物材料层;

在所述第一聚合物层上沉积第二材料层;

基于所述坐标集合在与亚波长光栅图案对应的所述第二层中限定光栅线条图案;

在所述第二层上沉积第二聚合物材料层;以及

沉积与平面第二反射结构对应的第三材料层。

15.根据权利要求14所述的方法,进一步包括在与所述第一反射结构对应的所述第一层和/或与所述第二反射结构对应的所述第二层中限定光栅线条图案。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普发展公司;有限责任合伙企业,未经惠普发展公司;有限责任合伙企业许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980161441.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top