[发明专利]正作用可光致成像底部抗反射涂层

权利要求书

1.能够通过在碱性水溶液中显影而形成图案的可光致成像抗反射涂料组合物，其包含

(i)可溶于涂覆溶剂并包含发色团、氟化基团、交联性结构部分和任选的可断裂基团的聚合物A，该可断裂基团在酸或热条件下产生有助于所述聚合物在碱性水溶液中的溶解性的官能团并且优选是酸或热不稳定基团；和

(ii)至少一种光酸产生剂；

(iii)交联剂；

(iv)任选的热酸产生剂；

(v)在显影之前可溶于碱性水溶液的聚合物B，其中聚合物B与聚合物A是非溶混性的并且聚合物B可溶于涂覆溶剂，和

(vi)涂覆溶剂组合物，和

(vii)任选的猝灭剂。

2.权利要求1的抗反射涂料组合物，其中所述交联性结构部分是羟基和/或羧基。

3.权利要求1或2的抗反射涂料组合物，其中在聚合物A中，所述羟基是羟基芳族的并优选选自羟苯基、羟萘基和羟蒽基。

4.权利要求1-3中任一项的抗反射涂料组合物，其中在聚合物A中，所述氟化基团选自氟醇、全氟烷基和部分氟化的烷基。

5.权利要求1-4中任一项的抗反射涂料组合物，其中聚合物A具有以下结构

其中R₁至R₃独立地是H或C₁-C₄烷基，X是单一价键或连接基，Chr包含发色团，W是H或交联性官能团，R_f是部分或完全氟化的烷基，Y选自H、OH、COOR和COOH，R是烷基，Z是交联性官能团，L是不稳定基团，a＞1，b＞1且c≥0，d≥0，a、b、c和d当存在时是正整数。

6.权利要求1-5中任一项的抗反射涂料组合物，其中所述聚合物B包含羟苯基和衍生自丙烯酸酯的单体单元。

7.权利要求1-6中任一项的抗反射涂料组合物，其中所述聚合物B具有低于聚合物A的水接触角，其中优选聚合物A和聚合物B之间的水接触角差在5-25度的范围内。

8.使可光致成像抗反射涂料组合物成像的方法，包括：

a)在基材上形成权利要求1-7中任一项的底部可光致成像抗反射涂料组合物的涂层；

b)烘烤该抗反射涂层以致聚合物A分离而在聚合物B上面形成层，

c)在该底涂层上方提供顶部光致抗蚀剂层的涂层；

d)将该光致抗蚀剂和底涂层对相同波长的光化辐射成像曝光；

e)将在该基材上的光致抗蚀剂和底涂层进行曝光后烘烤；和

f)用碱性水溶液将该光致抗蚀剂和底涂层显影，从而在该光致抗蚀剂层和抗反射涂层中形成图案。

9.根据权利要求8的方法，还包括以下步骤：在抗反射涂料组合物的涂覆后且在抗反射涂料组合物的烘烤之前除去边胶。

10.根据权利要求8或9的方法，其中所述抗反射涂层在烘烤步骤后在涂覆光致抗蚀剂层之前变得不溶于有机溶剂和碱性水溶液，并在对光化辐射曝光后在光致抗蚀剂和底部抗反射涂层显影之前变得可溶于碱性水溶液。

11.根据权利要求8-10中任一项的方法，其中所述显影剂包含氢氧化四甲铵。

12.能够通过在碱性水溶液中显影而形成图案的可光致成像抗反射涂料组合物，其包含

(i)可溶于涂覆溶剂并包含发色团、交联性结构部分和任选的可断裂基团的聚合物A，该可断裂基团在酸或热条件下产生有助于所述聚合物在碱性水溶液中的溶解性的官能团；和

(ii)至少一种光酸产生剂；

(iii)交联剂；

(iv)任选的热酸产生剂；

(v)在显影之前可溶于碱性水溶液的聚合物B，其中聚合物B与聚合物A是非溶混性的并且聚合物B可溶于涂覆溶剂，和

(vi)涂覆溶剂组合物，和

(vii)任选的猝灭剂。

13.权利要求12的抗反射涂料组合物，其中聚合物A和聚合物B之间的水接触角差在5-25度的范围内，并且聚合物A具有比聚合物B更高的接触角。

14.权利要求12或13的抗反射涂料组合物，其中聚合物A的可断裂基团是酸或热不稳定基团。

15.权利要求12-14中任一项的抗反射涂料组合物，其中所述交联性结构部分是羟基和/或羧基。