[发明专利]将激光聚焦在光盘的标签表面无效
| 申请号: | 200980158723.1 | 申请日: | 2009-04-15 |
| 公开(公告)号: | CN102396027A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
| 发明(设计)人: | T.瓦格纳;D.B.奥奇达 | 申请(专利权)人: | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号: | G11B7/09 | 分类号: | G11B7/09;G11B7/085;G11B23/40 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘春元;王洪斌 |
| 地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光 聚焦 光盘 标签 表面 | ||
背景技术
一些光盘驱动器能够在可移除地插入该盘驱动器中的光盘上生成可见标签。与这样的驱动器一起使用的光盘除了允许数字数据被存储在该盘上的机构之外,典型地具有内部或外部加标签表面,该表面包括一种材料,该材料的颜色、暗度或二者可以在对其受控应用激光束的情况下被改变,以便在加标签表面上的应用了激光束的位置处形成可见标记。构成标签的可见标记可以共同地在光盘上形成文本、图形和摄影图像。这种加标签机构有利地避免了对比如丝网光屏(silk-screener)之类的附加装备的需求或避免了必须打印物理标签并将其附着到盘上的不便。许多用户还愿意让可见标记形成高图像质量的标签并且尽可能快地产生。
附图说明
结合附图,参考下面对本发明的实施例的详细描述将最好地理解本发明的特征和实现这些特征的方式以及发明本身。
图1是根据本发明的一个实施例的光盘的示意性表示,其图示了标签表面的特征。
图2是根据本发明的一个实施例的光盘驱动器的示意性表示,该光盘驱动器用于标记图1的光盘的标签表面。
图3是根据本发明的一个实施例的激光聚焦光学元件在图1的光盘的一转(one revolution)中根据正弦波从基线位置扫掠(sweeping)的示意性表示。
图4A和4B是根据本发明的一个实施例的用于在图1的光盘上形成可见标签的方法的流程图,其包括确定用于将激光聚焦在图1的光盘的标签表面上的致动器信号。
具体实施方式
现在参照附图,图示了本发明的实施例,其确定用于光盘驱动器的、可用于在插入在该盘驱动器中的光盘上形成高图像质量的可见标签的激光机构的聚焦致动器信号。该标签通过适当聚焦的激光根据由该盘驱动器接收的标签数据在光盘的标签表面上可控地制作可见标记而形成。
为了实现高水平的图像质量,通过激光在光盘上形成的斑点或标记的尺寸、颜色和/或暗度应当一致。这些斑点的特性至少部分地由激光机构生成的激光束在正在其上形成标记的虚拟轨迹上的聚焦程度来确定。光学驱动器具有聚焦致动器,其响应于聚焦致动器信号将激光聚焦光学元件定位在标签表面上的虚拟轨道之上的z轴位置处。激光聚焦光学元件的z轴位置至少部分地确定了激光束在虚拟轨迹上的聚焦程度。在加标签期间,聚焦致动器被操作以将激光的聚焦光学元件置于相对于标签表面的期望z轴位置处。
然而,光盘可能不是完全平坦的。代替地,它可以以某种方式翘曲。而且,该盘在被插入到盘驱动器中时可能被倾斜。结果,为了在这样的条件下实现高质量成像,为维持相对于标签表面的期望距离而由聚焦致动器将激光聚焦光学元件定位到的z轴位置可以根据在盘驱动器中的光盘的由于翘曲和倾斜所产生的“表面轮廓”而随着虚拟轨迹距光盘的轴毂(hub)的径向位置和围绕虚拟轨迹的角位置二者来变化。为了在光盘上要被加标签的各种径向和角位置处确定应用到聚焦致动器的适当致动器信号,在激光形成标记之前,盘的表面轮廓在被安装在盘驱动器中时可被“映射”或表征。该映射结果然后可以用于构建表面模型,当激光在后续标记操作中标记光盘上的各种径向和角位置时该表面模型可用于生成适当的聚焦致动器信号以用于聚焦激光。
映射表面轮廓的时间添加到对盘加标签所花费的总时间量。因此,有利的是,在尽可能短的时间内执行该操作。此外,与具有更简单结构的光盘相比,诸如DVD之类的一些多层光盘可以展示具有更高频率表面偏差的翘曲。因此有利的是,构建更好地建模这些更高频率表面偏差的表面模型。
如随后将更详细地描述的,本发明的实施例有利地减少了映射表面轮廓所花费的时间,并且因此减少了向盘加标签所花费的总时间。使用激光聚焦光学元件的从基线位置的正弦扫掠或扰动(perturbation)来映射表面的角扇区(angular sector)允许在盘的单转(single revolution)中完成针对给定径向位置的映射。正弦地扫掠聚焦光学元件减少了它们定位中的过冲(overshoot)和振铃效应(ringing),这进而允许光盘上定义的角扇区的数量增加、盘更快地转动或二者。数量增加的角扇区允许构建更好地建模更高频率表面偏差的表面模型。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普开发有限公司,未经惠普开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980158723.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





