[发明专利]用于在光学配线板中形成镜面反射膜的方法和光学配线板

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于在光学配线板中形成镜面反射膜的方法，并且涉及一种包含利用该方法形成的镜面反射膜的光学配线板。

背景技术

光学配线板，是与光学波导结合的印刷电路板，作为解决如更快信号和不适当传输带宽伴随的高频噪声这样的各种信息处理设备中的持久性问题的手段，引起人们的广泛关注。

在这种光学配线板中，例如，当从基板表面输出光，或者相反地，向基板表面输入光时，镜面反射膜被形成在光学波导上以便以期望的角度弯曲光。作为形成这种膜的方法，例如，诸如非专利文献1的方法是众所周知的。这种方法包含形成镜面型倾斜面的处理，和在该表面上形成反射膜的处理。参照附图，阐述该方法的概要如下。

在图1中，(a)至(i)是用于阐明制作光学配线板的方法的实例的示意图，在该光学配线板中在光学波导上形成镜面反射膜，并且显示制作柔性型光学配线板的代表方法。

首先，准备包含铜箔或者类似物的金属层1和由聚亚胺树脂或类似物形成的绝缘层2的柔性电路板(图1的(a))。在绝缘层2面上形成第一熔覆层3(图1的(b))。

作为熔覆层3的材料，使用在传播光的波长上具有期望透明度的树脂，例如传播光的波长是850nm。可以使用各种形式，包括液体、半固化膜，或者是UV硬化材料或热硬化材料。当使用液体时，例如应用旋涂方法，或者在膜的情况下，例如应用真空层压方法，在绝缘层2上沉积该液体或者薄膜并且按需要进行硬化。

其次，形成核心层4(图1的(c)和(d))。核心层4是通过在与熔覆层3的界面处的全反射来限制并且传播光的部分，并且一般形成几μm至几百μm量级的宽度的图案(pattern)。

作为核心层4的组成材料，使用具有折射率高于熔覆层3并且在传播光的波长上具有期望透明度的树脂，例如波长为850nm。其形式可以是液体或者半固化膜，并且一般地，使用具有UV硬化性质并且能够由UV平版印刷术形成图案的材料。

核心层4一般由以下步骤形成：在整个表面类似于熔覆层3地被覆盖有膜之后，进行掩模以掩盖不必要的部分，然后进行UV照射以仅硬化必要部分(图1的(c))，后面的步骤是冲洗不必要部分(显影)(图1的(d))。

接下来，形成用于镜面薄膜形成的倾斜面5(图1的(e))。对于技术，例如，可以使用采用切割刀片的方法，采用槽刨刀片(router blade)的方法或者采用激光的方法，其中通常以大约45°角形成倾斜面5。在紧接着形成倾斜面5之后的步骤中，可能出现其表面平滑度不足以用作镜面的情况；在这种情况下，通过稀释波导材料获得的清漆可以被应用于机械加工面以改善平滑度。

接下来，在倾斜面5上形成镜面反射膜6(图1的(f))。在形成镜面反射膜6时，通常采用诸如真空蒸发或者溅射的真空法。作为镜面反射膜6的材料，当然选择在要被传播的光的波长范围内具有较高反射率的材料，但是考虑到可靠性和成本，选择性质平衡的材料。例如，在非专利文献1中，使用Au(金)。

接下来，已经在倾斜面5上形成镜面反射膜6的核心层4被覆盖有第二熔覆层7(图1的(g))。在形成第二熔覆层7时，一般而言，采用与第一熔覆层3相同的材料。其技术也是类似的；在液体的情况下，例如使用旋涂方法，并且在薄膜形式的情况下，例如真空层压方法能够被用于形成(薄膜沉积)，后面是根据需要进行硬化。

在形成第二熔覆层7之后，在其上形成覆盖层8以保护光透射层(图1的(h))。作为覆盖层8的材料，使用聚酰亚胺树脂、聚酯树脂或者其类似物，并且采用真空压制方法或者层压方法，接着是在大约140至170℃加热以硬化附着层。

最后，进行诸如通孔、电路图案和焊料抗蚀剂的形成的处理，以及进行金属镀层的处理，从而完成表层电路9(图1的(i))。此时，用于安装光学元件的衬底需要微米级定位精确度，并且在这种情况下，采用使用激光加工的高精度衬底形成的方法，例如专利文献1中说明的。

专利文献1：第2007-086210号日本特开专利公报

非专利文献1：松下电工技术报告，第54卷，第3，“光电复合柔性印刷电路板”(2006年9月发行)

发明内容

在诸如图1所示的制作光学配线板的传统方法中，对于在光学波导上形成镜面反射膜6的方法，已经采用如上所述的真空蒸发方法或者溅射方法，以使得金属附着到倾斜面5。但是，根据本发明者的研究，为了进行这些方法，需要真空处理设备或者其他大型设备，以致强加了过多的经济负担。