[发明专利]具有改进的空间模式的高功率VCSEL有效
| 申请号： | 200980149700.4 | 申请日： | 2009-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN102246367A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | J.S.科尔布;M.米勒;S.温特施泰因;U.恩斯特 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/065 | 分类号： | H01S5/065;H01S5/183;H01S5/42;B41J2/455;G06K15/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 景军平;刘鹏 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 改进 空间 模式 功率 vcsel | ||
1.一种VCSEL装置，其包括：
光学增益介质(8)，其布置于第一DBR(9)与第二DBR(7)之间，
所述第一、第二DBR(7,9)形成激光腔且被设计成允许所述激光腔中的自容式激光发射，且
所述第二DBR(7)对于在所述激光腔中谐振的激光辐射是部分透明的；以及，
光学元件，其布置于所述激光腔的光轴上所述激光腔外的所述第二DBR(7)的侧部上，
所述光学元件具有朝向所述第二DBR(7)的凹表面(5)且凹表面(5)被设计成将透过所述第二DBR(7)发射的激光辐射的一部分反射回到所述激光腔内，
其中所述凹表面(5)的曲率半径R与所述凹表面(5)和所述增益介质(8)之间的距离d的比值R/d在1与2之间的范围内。
2.根据权利要求1所述的VCSEL装置，
其中，朝向所述第二DBR(7)的所述凹表面(5)对于所述激光辐射具有20%与30%之间的反射率。
3.根据权利要求1或2所述的VCSEL装置，
其中，朝向所述第二DBR(7)的所述凹表面(5)是微透镜(4)的内表面。
4.根据权利要求3所述的VCSEL装置，
其中，所述微透镜(4)是平凸透镜。
5.根据权利要求1或2所述的VCSEL装置，
其中，朝向所述第二DBR(7)的所述凹表面(5)是安装在所述第二DBR(7)上的光学元件的内表面。
6.根据权利要求1所述的VCSEL装置，
其中，所述凹表面(5)与所述增益介质(8)之间的所述距离≥1mm。
7.一种VCSEL阵列，其包括在共同基板(11)上的若干根据权利要求1至6中任一项所述的VCSEL装置。
8.一种利用激光辐射来生成图像，特别是用于使印刷结构成像的装置，该装置包括至少一个根据权利要求7所述的VCSEL阵列。
9.利用激光辐射将根据权利要求7所述的VCSEL阵列用于生成图像，特别地用于使印刷结构成像的用途。
10.印刷基板处理设备，特别是印刷机，其包括至少一个根据权利要求8所述的装置。
11.印刷结构处理设备，特别是板设置机，其包括至少一个根据权利要求8所述的装置。
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