[发明专利]用于局部区域导航的高精确度射束放置有效

专利信息
申请号: 200980149693.8 申请日: 2009-10-11
公开(公告)号: CN102246258A 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: R.J.杨;C.吕;P.D.卡尔森 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: H01J37/20 分类号: H01J37/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 马永利;卢江
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 局部 区域 导航 精确度 放置
【权利要求书】:

1. 一种用于到样本表面上的局部区域内的感兴趣特征的高精确度射束放置和导航的方法,包括: 

将样本加载到粒子束系统中; 

使用第一视场来获取样本表面上的局部区域的第一图像,该第一视场足够大以保证感兴趣特征的位置被包括在图像中,基于其来考虑成像系统的精确度,第一图像包括感兴趣特征的位置和在感兴趣特征附近的一个或多个对准点,并且所述第一图像还具有使得图像像素尺寸等于或小于对准点的分辨率; 

将坐标系覆盖图叠加在第一图像上,该坐标系覆盖图表示样本表面上的特征的理想化坐标; 

使用第一图像中的多个对准点和坐标系覆盖图中的相应理想化元素使第一图像与坐标系配准; 

在图像和坐标系已被配准之后,使用来自坐标系的已知坐标导航到所获取的第一图像中的感兴趣特征的位置; 

识别第一图像中的一个或多个传递基准,其中,所述传递基准包括能够被容易地识别的样本表面上的唯一可见特征; 

记录传递基准与感兴趣特征之间的偏移; 

使用第二视场来获取样本表面的第二图像,所述第二视场小于第一视场且包括感兴趣特征和所述一个或多个传递基准; 

识别第二图像中的所述一个或多个传递基准; 

使用传递基准与感兴趣特征之间的记录偏移来精确地导航到感兴趣特征的位置。

2. 权利要求1的方法,其中,第一图像的分辨率产生在10-60 nm范围内的像素尺寸。

3. 权利要求1的方法,其中,所述坐标系覆盖图包括表示半导体表面上的特征的位置并被在视觉上叠加显示在第一图像上的理想化几何形状。

4. 权利要求3的方法,其中,所述对准点包括第一图像中的与坐标系覆盖图中的几何形状相对应的一个或多个可见特征,并且其中,使第一图像与坐标系配准的步骤包括使第一图像与坐标系覆盖图匹配,以使得第一图像中的对准点和相应的几何形状被对准。

5. 权利要求4的方法,其中,使第一图像与坐标系配准的步骤包括通过使用计算机定位设备来指示第一图像中的对准点并且还使用计算机定位设备来指示坐标系覆盖图中的相应位置来交互地选择对准点。

6. 权利要求1的方法,其中,使第一图像与坐标系配准包括对一个或多个对准点进行定位并确定一个或多个对准点与坐标覆盖图中的相应特征之间的偏移误差。

7. 权利要求6的方法,其中,使第一图像与坐标系配准包括使第一图像中的对准点与坐标系覆盖图中的相应元素匹配并使坐标系覆盖图与第一图像对准。

8. 权利要求7的方法,其中,使坐标系覆盖图与第一图像对准包括对坐标系覆盖图进行移位、旋转、拉伸或调整大小以便使第一图像与坐标系覆盖图匹配。

9. 权利要求1的方法,还包括在使用第一图像中的多个对准点和坐标系覆盖图中的相应理想化特征来使第一图像与坐标系配准之后,对在感兴趣特征附近具有其它对准点的一个或多个附加位点进行重新成像并对由不同图像指示的偏移误差求平均值。

10. 权利要求1的方法,其中,由在计算机机器上实行的自动化计算机脚本来执行使第一图像与坐标系配准的步骤。

11. 权利要求1的方法,其中,识别第一图像中的一个或多个传递基准的步骤包括在感兴趣特征的位置附近的样本上产生一个或多个适当的传递基准。

12. 权利要求11的方法,其中,在感兴趣特征的位置附近的样本上产生一个或多个适当的传递基准包括在样本表面中研磨沟槽以用作基准,所述沟槽形成完全围绕感兴趣特征的位置的框架。

13. 权利要求1的方法,其中,识别已放大第一图像中的一个或多个传递基准包括产生在局部区域内但与感兴趣特征分离的一个或多个期望传递基准。

14. 权利要求13的方法,其中,通过离子束溅射或表面着色、气体辅助蚀刻或沉积或电子束诱导气体辅助蚀刻或沉积来产生所述一个或多个期望传递基准。

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