[发明专利]电子材料用清洗剂

说明书

技术领域

本发明涉及一种电子材料用清洗剂。更详细地讲，涉及一种不污染电子材料、且不用担心对制造设备造成腐蚀的、对电子材料上的微小颗粒具有优良除去性的电子材料用清洗剂。

背景技术

以磁盘(magnetic disk)用基板、平板显示器(flat-panel display)用基板以及半导体基板等为代表的电子材料的清洗技术中，在近年来，随着以超大规模集成电路(ultra-large scale integration，简称为ULSI)等为代表的微加工技术的进步，在电子材料、特别是基板上残存的微量颗粒或有机物对组件(device)的性能或产量产生较大影响，因此清洗时的管理变得极其重要。特别是最近作为清洗对象的颗粒自身也存在进一步微粒化的倾向，微粒化的颗粒变得更加容易附着于界面上，因此高度清洗技术的确立已成为当务之急。

为了防止由这些颗粒所造成的污染，提出了添加表面活性剂而降低颗粒表面的ζ电位(zeta potential)，从而减低颗粒附着的方法(参照专利文献1～3)等。

专利文献

专利文献1：特开平5-138142号公报

专利文献2：特开平6-41770号公报

专利文献3：特开2001-7071号公报

发明内容

然而，上述专利文献1中提出的表面活性剂为非离子型表面活性剂，因此并不能充分降低颗粒表面的ζ电位，不能充分防止再附着。另外，上述专利文献2中提出的表面活性剂是阴离子型表面活性剂，确实可以降低颗粒表面的ζ电位，从而具有防止颗粒再附着的效果，可在一定程度上改善颗粒的再附着，然而对细微化颗粒的除去性并不充分。

此外，为了降低基板上的金属污染，在专利文献3中提出了一种使用有机酸和表面活性剂的酸性清洗剂，但是清洗时容易与微量的金属(钙或镁等)形成难溶于水的盐，因此存在这些析出的盐污染基板的问题。

本发明的课题是提供一种电子材料用清洗剂，该电子材料用清洗剂对细微化的颗粒的清洗能力优良且可降低基板上的金属污染，并且可提高制造时的产率，能在短时间内清洗，使这种非常有效的高度清洗成为可能。

为了解决上述课题，本发明人等进行了深入研究，结果完成了本发明。即，本发明是一种电子材料用清洗剂，所述电子材料用清洗剂含有氨基磺酸(sulfamic acid)(A)、分子内具有至少一个磺酸基或该磺酸基的盐的阴离子型表面活性剂(B)、螯合剂(C)以及水作为必要成分；以及一种电子材料的制造方法，所述方法包括使用所述清洗剂对电子材料进行清洗的工序。

本发明的电子材料用清洗剂可防止作为现有课题的清洗工序中的颗粒粒子再附着于电子材料上、以及可优良地除去细微化颗粒，且具有可提高组件的可靠性和产量的效果。

另外，本发明的电子材料用清洗剂也不会在清洗时与水中存在的微量金属离子反应而生成水不溶物，不用担心由于清洗剂而造成的二次污染，也不会对制造设备中使用的金属部件造成腐蚀。

具体实施方式

对本发明中的氨基磺酸(A)并无特别限定，可使用通常市售的试剂或工业用原料中的任一种，也可以是粉末状或水溶液状的任一形态。

作为本发明中的分子内具有至少一个磺酸基或该磺酸基的盐的阴离子型表面活性剂(B)，可列举一分子中具有至少2个以上重复单元的、重均分子量(以下简称为Mw)为1,000～2,000,000的高分子阴离子型表面活性剂(B1)以及低分子阴离子型表面活性剂(B2)。

作为上述高分子阴离子型表面活性剂(B1)的具体例，可列举聚苯乙烯磺酸、苯乙烯/苯乙烯磺酸共聚物、聚[2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸]、2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸/苯乙烯共聚物、2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸/丙烯酰胺共聚物、2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸/(甲基)丙烯酸共聚物、2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸/(甲基)丙烯酸/丙烯酰胺共聚物、2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸/苯乙烯/丙烯酰胺共聚物、2-(甲基)丙烯酰氨基-2，2-二甲基乙磺酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸共聚物、萘磺酸甲醛缩合物、甲基萘磺酸甲醛缩合物、二甲基萘磺酸甲醛缩合物、蒽磺酸甲醛缩合物、三聚氰胺磺酸甲醛缩合物、邻氨基苯磺酸-苯酚-甲醛缩合物以及它们的盐等。