[发明专利]具有匀光功能的激光泵浦装置和激光泵浦方法无效

专利信息
申请号: 200980149416.7 申请日: 2009-11-06
公开(公告)号: CN102246366A 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: 丹尼尔·科普夫;M·莱德勒 申请(专利权)人: 高Q技术有限公司
主分类号: H01S3/0941 分类号: H01S3/0941;G02B27/09;H01S3/06
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;张旭东
地址: 奥地利*** 国省代码: 奥地利;AT
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 功能 激光 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种产生用于强化激光束的激光工作物质(4,4′,4″)的椭圆形泵浦形状的激光泵浦装置,至少包括:

-激光泵浦源(1,1′,1″),具有多个用于产生部分泵浦光束(TPS1,TPS2,TPS1′,TPS1″,TPS2′,TPS2″)的多个发射极,尤其是激光器二极管,用于泵浦所述激光工作物质(4,4′,4″),

-光学匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″),用于在混匀轴(DA)方向上通过多次反射混匀所述部分泵浦光束(TPS1,TPS2,TPS1′,TPS1″,TPS2′,TPS2″),

-在所述激光泵浦源(1,1′,1″)和匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)之间的耦合光学系统(2,2′,2″),

其特征在于,

-所述耦合光学系统(2,2′,2″)是如此设计和布置的,所述部分泵浦光束(TPS1,TPS2,TPS1′,TPS1″,TPS2′,TPS2″)在垂直于混匀轴(DA)的投影轴(PA)方向上直接投影到所述激光工作物质(4,4′,4″)之上或之中,尤其是被聚焦到其上或其中,

-所述匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)和所述激光工作物质(4,4′,4″)是如此设计和布置的,由所述匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)发出的泵浦光束在相对混匀轴(DA)保持发散性的情况下被直接引导至激光工作物质(4,4′,4″)之上或之中。

2.一种产生用于强化激光束的激光工作物质(4,4′,4″)的椭圆形泵浦形状的激光泵浦装置,至少包括:

-激光泵浦源(1,1′,1″),具有用于产生部分泵浦光束(TPS1,TPS2,TPS1′,TPS1″,TPS2′,TPS2″)的多个发射极,尤其是激光器二极管,用于泵浦所述激光工作物质(4,4′,4″),

-光学匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″),用于在混匀轴(DA)方向上通过多次反射混匀所述部分泵浦光束(TPS1,TPS2,TPS1′,TPS1″,TPS2′,TPS2″),

-在所述激光泵浦源(1,1′,1″)和匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)之间的耦合光学系统(2,2′,2″),

其特征在于,

-所述发射极、耦合光学系统(2,2′,2″)和匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)是如此设计和布置的,它们协同配合地在所述匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)的输出端产生具有椭圆形泵浦形状的泵浦光束,其中所述部分泵浦光束(TPS1,TPS2,TPS1’,TPS1″,TPS2′,TPS2″)在垂直于混匀轴(DA)的投影轴(PA)方向上在相对投影轴(PA)保持发散性的情况下被投影到尤其是聚焦到该所述激光工作物质(4,4′,4″)之上或之中,

-由所述匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)发出的泵浦光束在相对混匀轴(DA)保持发散性的情况下被直接引导至激光工作物质(4,4′,4″)之上或之中。

3.根据权利要求1或2所述的激光泵浦装置,其特征在于,

所述匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)具有产生出射泵浦光束的椭圆形光束剖面的设定尺寸,尤其是通过在所述混匀轴(DA)和投影轴(PA)方向上的不同光束发散性。

4.根据权利要求3所述的激光泵浦装置,其特征在于,

所述光束剖面在形状和尺寸上基本和在所述激光工作物质(4,4′,4″)中的泵浦光束剖面相符合。

5.根据权利要求3或4所述的激光泵浦装置,其特征在于,

在所述椭圆形光束剖面的宽度上完成充分混匀。

6.根据权利要求1至5之一所述的激光泵浦装置,其特征在于,

所述匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)和所述激光工作物质(4,4′,4″)之间的间距小于

-所述出射泵浦光束的横截面的最小直径,或者

-所述匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)的最小边长,

所述间距尤其在100至880μm之间。

7.根据权利要求1至5之一所述的激光泵浦装置,其特征在于,

所述匀光器(3,3′,3″,3″′,3″″)接触所述激光工作物质(4,4′,4″),尤其与之相连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高Q技术有限公司,未经高Q技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980149416.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top