[发明专利]具有高折射率回填层和钝化层的光提取膜

权利要求书

1.一种用于提高对自发光光源的光提取率的多功能光学膜，包括：柔性基底；

提取元件的结构化层，其具有第一折射率，其中当所述光学膜贴靠所述自发光光源设置时，所述提取元件的相当大一部分与所述自发光光源的发光区域光学连通；和

回填层，所述回填层包含具有第二折射率的材料，所述第二折射率与所述第一折射率不同，其中所述回填层形成所述提取元件上方的平坦化层，并且其中所述结构化层的折射率与所述回填层的折射率之间的差值大于或等于0.3。

2.根据权利要求1所述的多功能光学膜，其中所述回填层的所述折射率大于1.8。

3.根据权利要求1所述的多功能光学膜，其中所述结构化层的所述折射率小于或等于1.5。

4.根据权利要求1所述的多功能光学膜，其中所述提取元件包括纳米结构化特征。

5.根据权利要求1所述的多功能光学膜，其中所述回填层的材料包含填充纳米粒子的聚合物材料。

6.根据权利要求1所述的多功能光学膜，其中所述基底包含下列一者：聚合物膜；基本上光学透明的材料；或阻隔材料。

7.根据权利要求1所述的多功能光学膜，还包括钝化层，该钝化层相邻地设置在所述回填层的与所述结构化层相背的表面上。

8.根据权利要求7所述的多功能光学膜，其中所述钝化层包含具有低渗透率的光学透明的高折射率材料。

9.一种制备用于提高光提取率的光学膜的方法，包括：

将具有第一折射率的一层有机材料涂覆到柔性基底上；

在所述有机材料中赋予纳米结构化特征，以形成纳米结构化表面；以及

在所述纳米结构化表面上施加回填层，以在所述纳米结构化表面上形成平坦化层，

其中所述回填层包含具有第二折射率的材料，所述第二折射率与所述第一折射率不同，并且其中所述纳米结构化特征的折射率与所述回填层的折射率之间的差值大于或等于0.3，并且

其中当所述光学膜贴靠自发光光源设置时，所述纳米结构化特征的相当大一部分与所述自发光光源的发光区光学连通。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述回填层的所述折射率大于1.8。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述纳米结构化特征的所述折射率小于或等于1.5。

12.根据权利要求9所述的方法，其中所述赋予纳米结构化特征的步骤包括：

提供具有纳米结构化特征的母模工具；以及

将具有所述一层有机材料的柔性基底施加到所述母模工具，使得所述有机材料被施加为贴靠所述母模工具，以将所述纳米结构赋予所述有机材料中。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述赋予纳米结构化特征的步骤包括将所述纳米结构化特征印刷到所述有机材料上。

14.根据权利要求9所述的方法，其中所述赋予纳米结构化特征的步骤包括将所述纳米结构化特征压印到所述有机材料中。

15.根据权利要求9所述的方法，还包括利用下列方法之一施加所述回填层，以形成所述平坦化层：液体涂覆；蒸气涂覆；粉末涂覆；层合；浸涂；或卷对卷涂覆。

16.根据权利要求9所述的方法，还包括将钝化层施加到所述回填层的与所述结构化层相背的表面上。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述钝化层包括具有低渗透率的光学透明的高折射率材料。

18.一种制备用于提高光提取率的光学膜的方法，包括：

将具有第一折射率的纳米粒子施加到柔性基底上，其中当所述光学膜贴靠自发光光源设置时，所述纳米粒子的相当大一部分与所述自发光光源的发光区光学连通；以及

在所述纳米粒子上外涂回填层，以在所述纳米粒子上方形成平坦化层，其中所述回填层包含具有第二折射率的材料，所述第二折射率与所述第一折射率不同，并且所述纳米粒子的折射率与所述回填层的折射率之间的差值大于或等于0.3。

19.根据权利要求18所述的方法，其中所述回填层的所述折射率大于1.8。

20.根据权利要求18所述的方法，其中所述纳米粒子的所述折射率小于或等于1.5。