[发明专利]具有稳定的扁平喷射图案的喷嘴阵列无效
| 申请号: | 200980145235.7 | 申请日: | 2009-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN102215934A | 公开(公告)日: | 2011-10-12 |
| 发明(设计)人: | D·K·诺依曼;A·R·阿乌特里;J·K·布拉瑟尔;K·R·霍布斯;B·R·尼扎莫夫;T·L·亨肖 | 申请(专利权)人: | 诺依曼系统集团公司 |
| 主分类号: | B01D47/02 | 分类号: | B01D47/02 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王永建 |
| 地址: | 美国科*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 稳定 扁平 喷射 图案 喷嘴 阵列 | ||
本申请是部分继续申请,并且要求2009年7月6日申请的题为“气液接触器以及流出物清洁系统和方法”的第12/459,685号美国专利申请的优先权,还要求2008年9月26日申请的题为“用于移除气体污染物的系统”的第61/100,564号美国临时专利申请、2008年9月26日申请的题为“气液接触器系统和方法”的第61/100,606号美国临时专利申请以及2008年9月26日申请的题为“气液接触器以及流出物清洁系统和方法”的第61/100,591号美国临时专利申请的优先权;所有这些申请全文均以引用的方式并入本文中。另外,本申请涉及2008年2月4日申请的题为“两相反应器”的第12/012,568号美国专利申请的主题,该申请是2005年2月14日申请的题为“两相反应器”的第11/057,539号美国专利申请(现已授权为第7,379,487号专利)的继续申请,上述两件申请的全文均以引用的方式并入本文中。
发明背景
技术领域
本发明大体上涉及一种装置,更具体地说,涉及一种用于增大由装置中的喷嘴板形成的液体射流的稳定性的稳定单元和/或增强物(增强剂)。本发明的另一个方面涉及在减小液体射流的稳定性的条件下运行装置,例如液滴生成器装置。本发明的又一个方面涉及利用含水浆料的装置的运行。
背景技术
气体吸收入液体中是多个气液接触系统中的关键处理步骤。也已知为气液反应器的气液接触器可分类成表面和体积反应器,其中分别在液体表面处和散装液体内形成两个相之间的界面表面区域。存在表面气液反应器的许多实例,诸如旋转盘和液体射流接触器。旋转盘生成器是部分浸入在液体中且暴露至气体流的盘(转子)。液体溶液薄膜形成在转子表面上且与同流试剂气体流接触。盘旋转,以更新液体试剂与气体接触。在体积气液反应器中,气相如小气泡那样分散在散装气体中。气泡形状可以是球形或者不规则形,且通过气体喷射器引入液体中。气泡可被机械搅动,以增大质量传递。
在许多气液接触系统中,向液相的气体传递率由散装流体与气液界面之间的液相质量传递系数k、界面表面积A以及浓度梯度德尔塔C控制。气体吸收入液体中的比率的实际形式则为:
其中,变量Φ是每单位体积反应器的气体吸收率(摩尔/(cm3s));φ是每单位界面面积的平均吸收率(摩尔/(cm2s));a是每单位体积的气液界面面积(cm2/cm3或cm-1);p和pi分别是散装气体中和界面处试剂气体的部分压力(巴);CL*是与现有气相部分压力pi相平衡的液体侧浓度(摩尔/cm3);CL(摩尔/cm3)是散装气体中的溶解气体的平均浓度;且kG(摩尔/(cm2*s*巴))和kL(cm/s)分别是气体侧和液体侧质量传递系数。
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