[发明专利]转化膜及其制造方法

权利要求书

1.用于发光元件的转化膜，包含基材A和一个或多个包括转化颜料的转化层B，其特征在于所述基材基本或完全由玻璃或陶瓷或聚合物材料组成。

2.根据权利要求1的转化膜，其特征在于所述基材A具有50%或更高，优选70%或更高，特别优选90%或更高的透明度。

3.根据权利要求1或2的转化膜，其特征在于所述聚合物材料选自下列聚合物：聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、三醋酸纤维素(CTA)、乙烯-乙酸乙烯酯(EVA)、聚乙酸乙烯酯(PVA)、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚氯乙烯(PVC)、聚酯、聚碳酸酯(PC)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚氨酯(PU)、热塑性聚氨酯(TPU)、聚酰胺(PA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酰亚胺(PI)、多芳基化合物(PAR)、硝酸纤维素、纤维素酯、聚氟烃和/或至少两种上述聚合物的单体的共聚物和/或两种或更多种这些聚合物的混合物。

4.根据权利要求1至3之一的转化膜，其特征在于除了一个或多个所述转化层B之外，所述转化膜还包括一个或多个保护层C和/或覆盖膜。

5.根据权利要求1至4之一的转化膜，其特征在于除了一个或多个所述转化层B之外，所述转化膜还包括一个或多个半透明着色层D和/或一个或多个图案层E。

6.根据权利要求3至5之一的转化膜，其特征在于所述基材A是厚度为10 μm至2000 μm，优选70 μm至500 μm，特别优选100 μm至375 μm，非常特别优选125 μm至275 μm的膜。

7.根据权利要求3至5之一的转化膜，其特征在于所述基材A是厚度为500 μm至10,000 μm，优选750 μm至6000 μm，特别优选2000 μm至5000 μm的板。

8.根据权利要求1至7之一的转化膜，其特征在于所述一个转化层的厚度或所述多个转化层的厚度总和为1至300 μm，优选20至200 μm，特别优选50至100 μm，其中单独层的厚度优选不低于1 μm。

9.根据权利要求1至8之一的转化膜，其特征在于所述发光元件为发光半导体元件，优选为LED、OLED、PLED或电致发光元件。

10.制造根据权利要求1至9之一的转化膜的方法，其特征在于一个或多个所述转化层通过施加方法，优选通过印刷方法，特别优选通过丝网印刷方法施加到所述基材A上。

11.根据权利要求10的方法，包括以下步骤：

(1) 提供基材A；

(2) 通过施加方法，优选通过印刷方法，特别优选通过丝网印刷方法施加所述转化颜料，以产生转化层B；

(3) 使涂有所述转化层B的所述基材A干燥和/或聚合和/或交联，其中步骤(2)或步骤(3)或步骤(2)和(3)能够分别单独和/或交替重复一次、两次、三次或更多次，其中步骤(1)之后首先执行步骤(2)。

12.根据权利要求10和11之一的方法，其特征在于在干燥、聚合和/或交联的步骤(3)之一之后，优选在最后的步骤(3)之后，去除所述基材A。

13.转化膜，能根据权利要求10和11之一获得。

14.根据权利要求1至9之一或根据权利要求13的转化膜用于装备发光元件的用途。

15.包含发光元件的装置，其特征在于所述发光元件被至少一个根据权利要求1至9之一或根据权利要求13的转化膜覆盖。