[发明专利]用来使玻璃熔体均化的方法和设备

权利要求书

1.一种搅拌玻璃熔体的方法，包括：

使得熔融玻璃(16)流过搅拌室(10)，所述搅拌室包括盖子(36)，所述盖子(36)包括通过该盖子(36)的通道(38)，所述搅拌室还包括搅拌器(26)，所述搅拌器(26)包括贯穿所述盖子通道的轴(28)，在所述搅拌器轴和盖子之间形成环形间隙(40)；以及

用设置在所述搅拌器轴的内部空腔(44)中的加热元件(46)对搅拌器轴的至少一部分进行加热。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述加热元件(46)包括多个加热元件。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述多个加热元件中的至少一个的热量输出进行改良，以便沿着所述搅拌器轴(28)的长度产生预定的温度梯度。

4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，通过所述环形间隙(40)的轴(28)的温度保持在约等于或高于400℃。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述加热元件(46)包含选自铂、钨、钼或其合金的金属。

6.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述空腔(44)包括位于其中的惰性气体。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述加热元件(46)与设置在搅拌器轴(28)上的导电环(48a，48b)电连接。

8.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述轴(28)被感应加热。

9.如权利要求1-7中任一项所述的方法，其特征在于，所述加热元件(46)是电阻线圈或感应线圈。

10.如权利要求1-9中任一项所述的方法，其特征在于，所述加热元件(46)与环形间隙相邻。

11.一种用于搅拌玻璃熔体的设备，该设备包括：

构造成容纳熔融玻璃(16)的搅拌室(10)，所述搅拌室包括盖子(36)，所述盖子限定了通过该盖子的通道(38)；

搅拌器(26)，其包括贯穿所述通道、延伸到搅拌室中的轴(28)，所述盖子和搅拌器轴限定了在它们之间的环形间隙(40)，其中，所述搅拌器轴限定了所述轴内部的空腔(44)；以及

加热元件(46)，其设置在搅拌器轴空腔之内，用来对通过所述环形间隙的轴的至少一部分进行加热。

12.如权利要求11所述的设备，所述设备还包括设置在搅拌器轴空腔(44)内的多个加热元件(46)。

13.如权利要求11或12所述的设备，其特征在于，所述多个加热元件(46)布置成沿着轴(28)的长度提供预定的温度分布。

14.如权利要求11-13中任一项所述的设备，所述设备还包括防护罩(64)，所述防护罩设置在轴(28)周围、盖子(36)上方。

15.如权利要求11-14中任一项所述的设备，所述设备还包括与轴(28)接触的导电环(48a，48b)，用来为加热元件(46)供应电流。

16.如权利要求11-14中任一项所述的设备，其特征在于，所述加热元件(46)是感应线圈。

17.如权利要求11-16中任一项所述的设备，其特征在于，所述空腔(44)包括位于其中的惰性气氛。

18.一种用于搅拌玻璃熔体的设备，该设备包括：

构造成容纳熔融玻璃(16)的搅拌室(10)，所述搅拌室包括盖子(36)，所述盖子限定了通过该盖子的通道(38)；

搅拌器(26)，该搅拌器包括贯穿所述通道、延伸到所述搅拌室中的轴(28)，在所述盖子和所述轴之间的空间限定了环形间隙(40)；以及

位于轴外部的至少一个辐射加热元件(66)，其用来使用具有足够功率的光对与环形间隙相邻的轴的部分进行辐照，将轴的至少一部分加热到至少约400℃。

19.如权利要求18所述的设备，其特征在于，所述辐射加热元件(66)是红外光源。

20.如权利要求18或19所述的设备，其特征在于，所述辐射加热元件(66)是激光器。