[发明专利]氟化双(酞菁铝氧基)甲硅烷基颜料

说明书

技术领域

本发明涉及双(铝酞菁)络合物，其中铝通过包含至少一个硅烷氧基(siloxyl)的基团桥连，并且各酞菁基均取代有至少4个氟原子。这种类型的双化合物可用作颜料。

背景技术

颜料是相对不溶且用来上色的固体材料。包括铝酞菁在内的金属酞菁是一类公知的颜料类别，并能够用于多种应用中。举例而言，金属酞菁已经用于喷墨制剂(包括US 6153000、US 6726755、美国申请第2006014855号、US 5679139、DE 19735738和US 6152999)、电子照相术(包括US 4701396)、滤色镜矩阵(包括美国申请第20080112068号和美国申请第20080112069号)、光电导成像(包括US 5441837)、光活化剂制剂(包括US 4548610)、光记录介质(包括EP 889097)、电泳显示(包括US 7382514和WO 2005047962)、磁泳或电磁泳显示(包括美国申请第20040030125号)和染料敏化太阳能电池(包括美国申请第2006070651号)。

US 4,311,775公开了与一个以上硅氧烷基桥连的双铝酞菁，并作为用于电子图像和光电图像处理的有效颜料。US 5,817,805公开了用于制备双(酞菁铝基)四苯基二硅氧烷(包括其中酞菁基可含有卤素基的那些)的合成方法。US 5773181公开了经氟和烷基取代的金属酞菁的混合物的制备，其中金属可以是铝或铜。

US 4,701,396公开了未桥连的钛氧基氟代酞菁。其它公开了氟化钛氧基酞菁的文献为US 6,949,139、US 5,614,342和US 20060204885。US 20040030125公开了包含桥连的双物质的甲硅烷基酞菁，其中酞菁基包含低分子量的氟化聚合部分。

US 20020117080公开了由铜酞菁和铝酞菁的混合物组成的颜料，其中酞菁基已随机地进行氯化或溴化。

氟化非金属酞菁或未桥连的金属酞菁还在下述文献中有所公开：Jones等，Inorg.Chem.，Vol 8，2018(1969)；Keller等，J.Fluorine Chem.，13，73(1975)；Peisert等，J.Appl.Physics，93(12)，9683(2003)；US 6,051,702；US 4,892,941；US 2,227,628和WO2005033110。用于制造通常用作酞菁基前体的氟化酞腈的方法包括US 4,209,458和WO1987007267。

虽然存在所有这些进展，但仍然需要发现符合下述条件的青色或蓝绿色颜料：该颜料具有改进的性质，特别是在有机溶剂中的分散性，同时保持良好的色调和环境稳定性(包括耐光性和抗臭氧降解性)。此外，还需要提供不涉及危险反应材料的制备方法。

发明内容

本发明提供如式(I)所示的氟化双(酞菁铝基)硅烷氧基颜料，其中至少4个氟原子直接连接至各个酞菁基上：

其中，

R₁和R₂独立地为经取代或未经取代的具有8个以下碳原子的烷基、烯基、炔基或环烷基或具有10个以下碳原子的芳基；

R₃是二价连接基团，其包括氧、R₁R₂Si、经取代或未经取代的烷基、烯基、炔基、环烷基或芳基；

R₁、R₂和R₃可以包含环单元；

n是1～4；并且

z是1～4。

式(I)的颜料具有良好的青色或蓝绿色色调和环境稳定性(包括耐光性和抗臭氧降解性)，并且在有机溶剂中具有优异的分散性。

附图说明

图1比较了基于比较例颜料和发明例颜料的水性墨水在涂布时的光谱。

图2和图3显示了在有机溶剂中形成的比较例纳米分散体和发明例纳米分散体的粒径分布。

具体实施方式