[发明专利]薄膜检查装置及其方法无效

专利信息
申请号: 200980138578.0 申请日: 2009-07-02
公开(公告)号: CN102165281A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 坂井智嗣;中野要治;小林靖之;山口贤刚;高野晓巳 申请(专利权)人: 三菱重工业株式会社
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;H01L21/205
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 高培培;车文
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 薄膜 检查 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜检查装置,对在透明玻璃基板上依次形成有反射率调整用的第1透明薄膜和第2透明薄膜以及透明导电膜的被检查基板,求出该第1透明薄膜和该第2透明薄膜的膜厚,该薄膜检查装置的特征在于,包括:

存储部,该存储部保存有至少2个特征量特性,所述2个特征量特性由以下方式得到:从因所述第1透明薄膜和所述第2透明薄膜的至少一方的膜厚变动而受到影响的分光反射光谱的特征量中选择至少2个特征量,并将所选择的该特征量中的每一个特征量与所述第1透明薄膜的膜厚和所述第2透明薄膜的膜厚分别建立关联;

对所述被检查基板从所述透明玻璃基板侧照射白色光的光照射部;

接受来自所述被检查基板的反射光的受光部;和

运算部,该运算部从基于由所述受光部接受的反射光的分光反射光谱求出在所述存储部中保存的各所述特征量的实测值,使用求出的各所述特征量的实测值与在所述存储部中保存的所述特征量特性,分别求出所述第1透明薄膜和所述第2透明薄膜的膜厚。

2.根据权利要求1所述的薄膜检查装置,其特征在于:

在所述存储部中保存的特征量特性中包含根据所述第1透明薄膜的膜厚而反射率发生变动的波长的反射率或者反射率的最大值。

3.根据权利要求2所述的薄膜检查装置,其特征在于:

在所述存储部中保存的特征量特性中包含以下任意一种:波长大约900nm以上且大约1200nm以下的最大反射率与最小反射率的差值;波长大约500nm以上且大约900nm以下的平均反射率;波长大约550nm以上且大约700nm以下的最大反射率与最小反射率的差值;和波长大约550nm以上且大约700nm以下的最小反射率。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的薄膜检查装置,其特征在于:

各所述特征量特性使用以第1透明薄膜的膜厚和第2透明薄膜的膜厚作为变量的多项式表示,

所述运算部求出在以下的(1)式的W成为最小时的x的值作为第1透明薄膜的膜厚、y的值作为所述第2透明薄膜的膜厚,

【数学式1】

W=Σj=1n(Zj(x,y)-zj)2---(1)]]>

在所述(1)式中,Zj(x,y)是在与第j个特征量对应的特征量特性中输入预定的第1透明薄膜的膜厚x和第2透明薄膜的膜厚y时的特征量的算出值、zj是第j个特征量的实测值、n是在所述存储部中保存的特征量特性的数目。

5.一种薄膜检查方法,对在透明玻璃基板上依次形成有反射率调整用的第1透明薄膜和第2透明薄膜以及透明导电膜的被检查基板,求出该第1透明薄膜和该第2透明薄膜的膜厚,该薄膜检查方法的特征在于:

预先取得至少2个特征量特性,所述2个特征量特性由以下方式得到:从根据所述第1透明薄膜和所述第2透明薄膜的膜厚的至少一方而变动的分光反射光谱的特征量中选择至少2个特征量,并将所选择的该特征量中的每一个特征量与所述第1透明薄膜的膜厚和所述第2透明薄膜的膜厚分别建立关联,

对所述被检查基板从该透明玻璃基板侧照射白色光,

接受来自所述被检查基板的反射光,

从基于受光的反射光的分光反射光谱求出所述特征量的实测值,

使用所取得的各所述特征量的实测值和所述特征量特性,分别求出所述第1透明薄膜和所述第2透明薄膜的膜厚。

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