[发明专利]碳质膜的制造方法及由其制得的石墨膜

权利要求书

1.碳质膜的制造方法，它是经过以高分子膜卷绕在卷芯的状态进行热处理的碳化工序来制造碳质膜的方法，其特征在于，碳化工序的至少一部分在减压下进行。

2.如权利要求1所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，减压的范围为-0.01kPa～-0.08MPa。

3.如权利要求1或2所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，在发生碳化热分解的温度区域内进行所述减压。

4.如权利要求1～3中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，在500℃～700℃的温度区域内进行所述减压。

5.如权利要求1～4中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，导入惰性气体的同时在-0.01kPa～-0.08MPa的范围的减压下进行碳化。

6.如权利要求5所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，将处理物的体积设为V(L)、导入的惰性气体的量设为V1(L/s)时，V/V1(s)的值为0.01以上1000以下。

7.如权利要求1～6中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，将卷芯横向设置进行热处理。

8.如权利要求1～7中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，高分子膜的厚度为10μm以上250μm以下。

9.如权利要求1～8中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述高分子膜的长度为10m以上。

10.如权利要求1～9中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述卷芯的直径为70mm以上。

11.如权利要求1～10中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，具备由所述卷芯和收纳卷芯的外筒构成的容器，该容器具有通气性。

12.碳质膜的制造方法，它是经过以高分子膜卷绕在卷芯的状态进行热处理的碳化工序来制造碳质膜的方法，其特征在于，设有所述碳化工序中的所述高分子膜的膨胀及收缩时束缚所述高分子膜的外周端部的束缚构件。

13.如权利要求12所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述碳化工序的至少一部分在减压下进行。

14.如权利要求12或13所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，还具备具有所述卷芯和外筒的容器，所述束缚构件为所述外筒，在将由(外筒的内径-卷芯的直径)除以2所得的值设为a(mm)、将高分子膜的卷厚设为b(mm)时，b除以a所得的值(b/a)在0.2～0.9的范围。

15.如权利要求14所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，(b/a)在0.5～0.8的范围内。

16.如权利要求14所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，(b/a)在0.3～0.7的范围内。

17.如权利要求14～16中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述外筒为从柱状体挖除圆柱形状而得的结构。

18.如权利要求14～17中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述外筒的至少一部分设有通气用孔。

19.如权利要求12～18中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，将所述卷芯横向设置对高分子膜进行热处理。

20.如权利要求12～19中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，高分子膜的厚度为10μm以上250μm以下。

21.如权利要求12～20中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述高分子膜的长度为10m以上。

22.如权利要求12～21中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述卷芯的直径为70mm以上。

23.如权利要求12～22中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，不使用隔离物膜而仅使用一种高分子膜。

24.如权利要求13～23中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，减压的范围为-0.01kPa～-0.08MPa。

25.如权利要求1～24中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，将在卷芯卷绕有高分子膜的状态的容器保持于加热器内进行间接的热处理。

26.石墨膜，其特征在于，将由权利要求1～25的碳质膜的制造方法制得的碳质膜在2400℃以上进行处理而得。