[发明专利]放射线敏感性树脂组合物及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、含氟树脂(C)和内酯化合物(D)，在将所述树脂(A)设定为100质量份的情况下，所述内酯化合物(D)的含量为31～200质量份，其中，所述树脂(A)包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元，所述含氟树脂(C)包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元。

2.如权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，在将所述树脂(A)设定为100质量份的情况下，所述含氟树脂(C)的含量为0.1～20质量份。

3.如权利要求1或2所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述含氟树脂(C)包含下述通式(8)表示的重复单元及下述通式(9)表示的重复单元中的至少一个，

通式(8)中，R¹⁶表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、三氟甲基或羟甲基，R³¹表示单键或(n+1)价的链状或环状的烃基，R³²表示单键或2价的链状或环状的烃基，X¹表示被氟原子取代的亚甲基或者碳原子数2～20的直链状或支链状的氟代亚烷基，G表示单键或-CO-，n表示1～3的整数，R³³表示氢原子或酸离解性基团，

通式(9)中，R¹⁸互相独立地表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、三氟甲基或羟甲基，R¹⁹表示至少一个氢原子被氟原子取代的碳原子数1～12的直链状、支链状或环状的烷基。

4.如权利要求1～3中任一项所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述含氟树脂(C)包含下述式(1c-1)表示的重复单元，

通式(1c-1)中，R表示氢原子、碳原子数1～4的直链状或支链状的烷基、三氟甲基或者羟甲基，R²表示碳原子数1～4的直链状或支链状的烷基，m表示0～4的整数。

5.如权利要求1～4中任一项所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述树脂(A)进一步包含含有内酯骨架的重复单元。

6.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有树脂(P)、树脂(Q)、放射线敏感性产酸剂(B)和内酯化合物(D)，在将所述树脂(P)设定为100质量份的情况下，所述内酯化合物(D)的含量为31～200质量份，其中，所述树脂(P)包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且氟含量低于3atom％，所述树脂(Q)包含含有氟原子的重复单元且氟含量为3atom％以上。

7.如权利要求6所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，在将所述树脂(P)设定为100质量份的情况下，所述树脂(Q)的含量为0.1～20质量份。

8.如权利要求6或7所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述树脂(P)进一步包含含有内酯骨架的重复单元。

9.一种抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，具备以下工序(1)～(3)：

工序(1)：使用权利要求1～8中任一项所述的放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成光致抗蚀剂膜；

工序(2)：将所述光致抗蚀剂膜进行液浸曝光；

工序(3)：将经液浸曝光的光致抗蚀剂膜显影，形成抗蚀剂图案。