[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其在真空容器内按顺序向基板的表面供给相互反应的至少两种反应气体，并且执行该供给循环，从而层叠多层反应生成物的层而形成薄膜，

该成膜装置包括：

旋转台，其设置在上述真空容器内；

基板载置区域，其设置在该旋转台上，用于载置基板；

第1反应气体供给部件和第2反应气体供给部件，其沿上述旋转台的旋转方向彼此分开地固定在该旋转台的上方，用于分别向基板供给第1反应气体和第2反应气体；

分离区域，其在上述旋转方向上位于被供给上述第1反应气体的第1处理区域和被供给第2反应气体的第2处理区域之间，用于将第1处理区域与第2处理区域的气氛分离开，且该分离区域设有用于供给分离气体的分离气体供给部件；

排气口，其用于对上述真空容器的内部进行真空排气，

上述第1反应气体供给部件和第2反应气体供给部件中的至少一方形成为气体喷嘴，该气体喷嘴沿与上述基板载置区域的移动方向交叉的方向延伸、且沿该气体喷嘴的长度方向形成有用于向上述旋转台喷出反应气体的喷出孔；

在上述气体喷嘴的上方侧形成有供分离气体流通的流通空间；

该成膜装置具有自上述气体喷嘴向上游侧和下游侧中的至少一侧伸出的整流构件。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

上述整流构件自上述气体喷嘴向上述上游侧和上述下游侧这两侧伸出。

3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其中，

各整流构件的距旋转台的中心部侧越远的部位，上述旋转方向的宽度越大。

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

上述整流构件的俯视形状形成为扇形。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述的成膜装置，其中，

上述分离区域具有顶面，该顶面位于上述分离气体供给部件的上述旋转方向两侧、且在该顶面与旋转台之间形成有供分离气体自该分离区域流向处理区域侧的狭窄的空间。

6.根据权利要求1～5中任意一项所述的成膜装置，其中，

该成膜装置具有中心部区域，该中心部区域位于真空容器内的中心部，用于分离上述第1处理区域和第2处理区域的气氛，且该中心部区域形成有用于向旋转台的基板载置面侧喷出分离气体的喷出孔。

7.根据权利要求6所述的成膜装置，其中，

上述中心部区域是被旋转台的旋转中心部和真空容器的上表面侧划分的、被分离气体吹扫的区域。

8.根据权利要求7所述的成膜装置，其中，

以能够将上述反应气体与扩散到分离区域的两侧的分离气体和自上述中心部区域喷出的分离气体一起排出的方式设置上述排气口。

9.根据权利要求1～8中任意一项所述的成膜装置，其中，

为了能使上述排气口专门用于排出各反应气体，俯视看来将上述排气口设置在上述分离区域的上述旋转方向两侧。

10.根据权利要求1～9中任意一项所述的成膜装置，其中，

上述分离气体供给部件具有用于喷出分离气体的气体喷出孔，自旋转台的旋转中心部、周缘部中的一方侧朝向另一方侧地排列该喷出孔。

11.根据权利要求1～10中任意一项所述的成膜装置，其中，

上述分离区域的顶面的真空容器外缘侧的部位以与上述旋转台的外端面相对的方式弯曲而构成真空容器的内周壁的一部分，将该顶面的弯曲部位与上述旋转台的外端面之间的间隙设定为能够获得防止反应气体进入的效果的尺寸。

12.根据权利要求1～11中任意一项所述的成膜装置，其中，

在上述分离区域的顶面上的相对于上述分离气体供给部件位于旋转台的相对旋转方向的上游侧的部位中，越靠近外缘的部位，上述旋转方向的宽度越大。