[发明专利]用于激光加工的方法和设备

权利要求书

1.一种通过激光束处理产生或修改结构的方法，包括： 

把激光束朝向样本引导以产生或者修改结构；

检测来自所述样本的由所述激光束的入射引起的发射；

确定所述发射的属性，所述属性表示所述样本的特征；以及

当所述发射指示所述激光束入射到其上的材料的变化时改变所述激光束处理。

2.如权利要求1所述的方法，其中，改变所述激光束处理包括停止把所述激光束朝向所述样本引导。

3.如权利要求1所述的方法，其中，改变所述激光束处理包括：改变气流、改变诸如每脉冲的能流的激光器参数、阻挡电子或离子束或者移动支撑所述样本的台。

4.如权利要求1所述的方法，其中，把激光束朝向样本引导包括在具有小于10^-3 毫巴的压强的环境中把激光束朝向样本引导。

5.如权利要求1所述的方法，其中，把激光束朝向样本引导包括在具有小于50 毫巴的压强的环境中把激光束朝向样本引导。

6.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括确定从所述样本发射的电子流。

7.如权利要求6所述的方法，其中，确定从所述表面发射的电子流包括测量所述样本和直接或者间接接触所述样本的地线之间的电流。

8.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括确定从所述样本发射的电子的能量。

9.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括检测从所述样本发射的光子。

10.如权利要求9所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括检测具有特征波长的光子。

11.如权利要求10所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括过滤具有除所述特征波长之外的波长的光子。

12.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括确定从所述表面发射的粒子的质量。

13.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括确定从所述表面发射的粒子的荷质比。

14.如权利要求12所述的方法，还包括在确定从所述表面发射的粒子的质量之前使中性粒子离子化。

15.如权利要求14所述的方法，其中，使中性粒子离子化包括使用激光束使中性粒子离子化。

16.如权利要求14所述的方法，其中，使中性粒子离子化包括使用电子束使中性粒子离子化。

17.如权利要求14所述的方法，其中，使中性粒子离子化包括引导具有时延的激光束以使通过第一激光束从所述样本喷射的演进发射离子化。

18.如权利要求14所述的方法，其中，使中性粒子离子化包括使用第二激光束使中性粒子离子化。

19.如权利要求1所述的方法，其中，确定从所述表面发射的粒子的质量包括使用感应耦合等离子体质谱分析法确定所述质量。

20.如权利要求1所述的方法，其中，把激光束朝向样本引导包括把具有小于一皮秒的脉冲持续时间的脉冲激光朝向所述样本引导。

21.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括使用窄带检测器来检测仅具有指定属性的发射。

22.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括确定所述发射的电流。

23.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括确定所述发射的能量。

24.如权利要求1所述的方法，还包括把带电粒子束朝向所述样本引导。

25.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述发射的属性包括确定所述发射的能谱。

26.一种在样本上产生结构的方法，包括：

把激光束朝向样本引导以产生或者修改结构；

把带电粒子束朝向所述样本引导；

检测来自所述样本的由所述带电粒子束的入射所引起的发射；

确定所述发射的属性，所述属性表示所述样本的特征；以及

当所述发射指示所述激光束入射到其上的材料的变化时改变激光束处理。