[发明专利]黑色覆膜及其制造方法、黑色遮光板及使用它的光圈、光量调节用光圈装置、快门以及耐热遮光带

权利要求书

1.一种黑色覆膜，该黑色覆膜是在基板上形成氧化钛膜而得到的黑色覆膜(A)，该氧化钛膜以钛和氧为主成分，含氧量以O/Ti原子数比计为0.7～1.4，其特征在于：

前述氧化钛膜为晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶体集合而成的组织，在该膜表面有突起，而且膜厚为50nm以上。

2.根据权利要求1所记载的黑色覆膜，其特征在于：基板选自：不锈钢、SK(碳钢)、Al、Ti等金属薄板；氧化铝、氧化镁、二氧化硅、氧化锆等陶瓷薄板；玻璃板；树脂板或树脂薄膜。

3.根据权利要求1所记载的黑色覆膜，其特征在于：氧化钛膜是进一步含有碳，碳的含量以C/Ti原子数比计为0.7以上的碳化氧化钛膜。

4.根据权利要求1或3所记载的黑色覆膜，其特征在于：构成氧化钛膜或碳化氧化钛膜的微细柱状晶体的微晶直径为10～40nm。

5.根据权利要求1或3所记载的黑色覆膜，其特征在于：膜厚是50～250nm。

6.根据权利要求1或3所记载的黑色覆膜，其特征在于：通过原子力显微镜测定的1μm×1μm的区域中的算术平均高度(Ra)是1.8nm以上。

7.根据权利要求6所记载的黑色覆膜，其特征在于：通过原子力显微镜测定的1μm×1μm的区域中的算术平均高度(Ra)是2.4nm以上。

8.根据权利要求1～7任一项所记载的黑色覆膜，其特征在于：波长380～780nm时的膜自身的平行光线透过率的平均值是13～35％。

9.根据权利要求1～8任一项所记载的黑色覆膜的制造方法，其特征在于：使用由氧化钛、氧化钛和碳化钛、或者碳化氧化钛的任一种烧结体构成的靶，在1.5Pa以上的成膜气压下进行溅镀，在基板上形成氧化钛膜或碳化氧化钛膜。

10.根据权利要求9所记载的黑色覆膜的制造方法，其特征在于：成膜气体是以氩或氦为主的不活泼气体，氧气的含量为0.8体积％以下。

11.一种黑色覆膜的制造方法，其特征在于：使用由氧化钛、氧化钛和碳化钛、或者碳化氧化钛的任一种烧结体构成的靶，在成膜时不导入氧气作为成膜气体，而导入以氩或氦为主的不活泼气体来进行溅镀成膜，将烧结体中含有的氧及/或成膜室内残留气体中的氧引入到膜中。

12.根据权利要求11所记载的黑色覆膜的制造方法，其特征在于：溅镀时，在1.5Pa以上的成膜气压下成膜。

13.一种黑色遮光性薄膜层叠体，该黑色遮光性薄膜层叠体是通过在权利要求1～8任一项所记载的选自氧化钛或碳化氧化钛的黑色覆膜(A)上依次层叠金属遮光膜(B)、同前述同样的黑色覆膜(A)而形成的。

14.根据权利要求13所记载的黑色遮光性薄膜层叠体，其特征在于：金属遮光膜(B)是以选自钛、钽、钨、钴、镍、铌、铁、锌、铜、铝或硅的一种以上元素为主要成分的金属材料。

15.根据权利要求13或14所记载的黑色遮光性薄膜层叠体，其特征在于：金属遮光膜(B)是碳化钛膜或碳化氧化钛膜，该膜中的含碳量以C/Ti原子数比计为0.6以上，且膜中的氧量以O/Ti原子数比计为0.4以下。

16.一种黑色遮光板，该黑色遮光板是通过使用树脂薄膜、树脂板、金属薄板或陶瓷薄板作为基板，在该基板的至少一面上形成膜厚40nm以上的金属遮光膜(B)，然后在金属遮光膜(B)的表面上层叠形成权利要求1～8任一项所记载的黑色覆膜(A)而得到的，其特征在于：

在波长为380～780nm时的平均光密度为4.0以上，且在波长为380～780nm时的黑色覆膜表面的正反射率的平均值为18％以下。

17.根据权利要求16所记载的黑色遮光板，其特征在于：树脂薄膜、树脂板、金属薄板或陶瓷薄板具有表面凹凸性。

18.根据权利要求16或17所记载的黑色遮光板，其特征在于：树脂薄膜是聚酰亚胺薄膜。

19.根据权利要求16所记载的黑色遮光板，其中金属遮光膜(B)是以选自钛、钽、钨、钴、镍、铌、铁、锌、铜、铝或硅的一种以上元素为主要成分的金属材料。