[发明专利]用于无掩模光刻的聚焦斑点优化

权利要求书

1.一种活动斑点阵列投影系统，包括：

发光器，用于照射图案发生器的可寻址元件；

成像器，用于将图案发生器的可寻址元件成像在相应聚焦元件上，所述相应聚焦元件形成可由图案发生器控制的图案中的聚焦斑点；

中继器，用于将聚焦斑点的图案的图像中继到光敏基板上，每个聚焦斑点包含一范围的空间频率；以及

在中继器光瞳附近的频率调制器，用于统一调制聚焦斑点的选定空间频率。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述频率调制器是用于衰减聚焦斑点的特定空间频率的变迹器。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述变迹器围绕中继器光轴非对称地衰减特定空间频率，以径向地平衡中继器光瞳内的空间频率分布。

4.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述变迹器围绕中继器光轴非对称地衰减特定空间频率，以减小中继器光瞳内空间频率的非对称分布。

5.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述变迹器围绕中继器光轴对称地衰减特定空间频率，以减小成像在所述基板上的聚焦斑点的旁瓣。

6.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述频率调制器是位于中继器光瞳附近的相位片，用以延迟聚焦斑点的特定空间频率的相位。

7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述相位片围绕中继器光轴非对称地延迟特定空间频率的相位，以将成像在基板上的聚焦斑点整形。

8.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述相位片围绕中继器光轴对称地延迟特定空间频率的相位，以减小成像在所述基板上的聚焦斑点的旁瓣或散焦的变化。

9.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述频率调制器沿中继器光轴从中继器光瞳偏离，以相对于成像在基板上的聚焦斑点图案的另一部分，不成比例地调制成像在基板上的聚焦斑点图案的一部分中的聚焦斑点。

10.一种改型聚焦斑点的可控图案内的聚焦斑点的方法，包括以下步骤：

用发光器照射图案发生器的可独立寻址元件；

将图案发生器的可寻址元件成像在相应聚焦元件上，以在由图案发生器控制的图案中形成聚焦斑点；

中继通过共同光瞳并落在基板像平面上的聚焦斑点的图案，每个聚焦斑点包含一范围的空间频率；以及

统一调制在共同光瞳中的聚焦斑点的选定空间频率，以使基板像平面上的聚焦斑点的图像包含光的经重构的角度分布。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述统一调制的步骤包括围绕中继器光轴非对称地衰减特定空间频率，以径向平衡中继器光瞳内的空间频率分布。

12.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述统一调制的步骤包括围绕中继器光轴非对称地衰减特定空间频率，以限制中继器光瞳内空间频率的非对称分布。

13.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述统一调制的步骤包括围绕中继器光轴对称地衰减特定空间频率，以减少成像在所述基板像平面上的聚焦斑点的旁瓣。

14.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述统一调制的步骤包括围绕中继器光轴非对称地延迟特定空间频率的相位，以对成像在所述基板像平面上的聚焦斑点进行整形。

15.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述统一调制的步骤包括围绕中继器光轴对称地延迟特定空间频率的相位，以减少成像在所述基板像平面上的聚焦斑点的旁瓣或散焦变化。

16.如权利要求10所述的方法，其特征在于，包括以下步骤：使频率调制器偏离中继器光瞳，以相对于成像在基板像平面上的聚焦斑点图案的另一部分，不成比例地调制成像在基板像平面上的聚焦斑点图案的一部分中的聚焦斑点。

17.如权利要求10所述的方法，其特征在于，包括以下步骤：确定成像斑点在基板像平面上拉长的方向，并且所述统一调制的步骤包括在中继器光瞳内的正交方向调制空间频率以使成像斑点重构成拉长较小的形状。