[发明专利]滤色器的制造方法、滤色器基板及滤色器无效
申请号: | 200980131153.7 | 申请日: | 2009-08-10 |
公开(公告)号: | CN102119347A | 公开(公告)日: | 2011-07-06 |
发明(设计)人: | 中村道卫;幸正弘;原田修;江木慎一郎;坂井尚之;山口俊夫 | 申请(专利权)人: | 大日精化工业株式会社 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;C09D11/00;C09D11/10;G02F1/1335;G03F7/023 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 滤色器 制造 方法 滤色器基板 | ||
1.一种滤色器的制造方法,其特征在于,其包括以下工序:按照至少覆盖形成于滤色器基板表面的黑色矩阵的方式,涂布光分解型的正型抗蚀剂从而形成抗蚀剂层的工序(工序A);从滤色器基板的背面对所述抗蚀剂层进行曝光的工序(工序B);将通过曝光而可溶化的抗蚀剂层洗涤除去,从而形成被由残留在所述黑色矩阵上的抗蚀剂层形成的孔壁(槽壁、隔壁)隔开的孔空间或槽空间(空孔)的工序(工序C);接着,对所述空孔赋予与滤色器的像素相对应的着色油墨从而形成着色膜的工序(工序D);从黑色矩阵侧进行曝光,从而使由所述抗蚀剂层形成的隔壁可溶化而除去的工序(工序E)。
2.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,滤色器基板为玻璃制、塑料制或者转印用或粘贴用塑料膜。
3.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,工序A中使用的正型抗蚀剂含有水溶性树脂和/或水溶胀性树脂。
4.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,工序A的正型抗蚀剂层厚为2~10μm。
5.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,着色膜选自由红色、绿色及蓝色这3原色、或黄色、品红色及青色这3原色、以及橙色、绿色、紫色的辅助色组成的组。
6.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,着色膜的形成方法选自于喷墨印刷方式、分配器注入方式、静电记录方式、电子照相方式、丝网印刷方式、热转印印刷方式、柔版印刷方式、凹版印刷方式及胶版印刷方式。
7.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,着色油墨是含有颜料及皮膜形成性材料的有机溶剂系油墨、水性油墨、无溶剂系油墨、能量线固化性油墨、热熔融性固体状油墨或微粉体状调色剂油墨。
8.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,着色油墨的粘度为1~40mPa·s。
9.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,着色油墨的颜料为C.I.颜料红9、97、168、177、216、224、226、242、254;C.I.颜料绿7、36;C.I.颜料蓝15:6、160;C.I.颜料紫23;C.I.颜料黄20、24、83、93、109、110、113、114、117、125、138、139、150、154、180、185;所述红色颜料与黄色颜料的或绿色颜料与黄色颜料的共沉淀颜料、固溶体颜料或混晶颜料;C.I.颜料黄62、74、93、155、185;C.I.颜料红122、146;C.I.颜料紫19;C.I.颜料蓝15:3;所述黄色颜料与蓝色颜料的、红色颜料与紫色颜料的或蓝色颜料与黄色颜料的共沉淀颜料、固溶体颜料或混晶颜料。
10.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,着色油墨中分散的颜料的平均粒径为10~100nm。
11.根据权利要求7所述的滤色器的制造方法,其中,着色油墨的皮膜形成性材料选自由非反应性的无规、嵌段和/或接枝共聚物(以下称为“共聚物”)、具有反应性基团的无规、嵌段或接枝共聚物、具有反应性基团的中分子量的低聚物、以及具有反应性基团的单体及交联剂组成的组。
12.根据权利要求11所述的滤色器的制造方法,其中,反应性基团为选自由羟甲基、异氰酸酯基、环氧基、氧杂环丁烷基、乙烯基、(甲基)丙烯酰基、羟基、羧基、氨基、亚氨基及它们的反应性衍生物组成的组。
13.一种滤色器的制造方法,其特征在于,权利要求1所述的滤色器基板为转印用或粘贴用印刷膜,将形成于这些基板上的滤色器像素转印或粘贴在玻璃制滤色器基板或塑料制滤色器基板上。
14.一种滤色器,其特征在于,其由权利要求13所述的方法制造。
15.一种滤色器,其特征在于,其由权利要求1~12中任一项所述的方法制造。
16.一种滤色器基板的制造方法,其特征在于,其包括以下工序:按照至少覆盖形成于滤色器基板表面的黑色矩阵的方式,涂布光分解型的正型抗蚀剂从而形成抗蚀剂层的工序(工序A);从滤色器基板的背面对所述抗蚀剂层进行曝光的工序(工序B);将通过曝光而可溶化的抗蚀剂层洗涤除去,从而形成被由残留在所述黑色矩阵上的抗蚀剂层形成的孔壁(槽壁、隔壁)隔开的孔空间或槽空间(空孔)的工序(工序C)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日精化工业株式会社,未经大日精化工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980131153.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。