[发明专利]强流直流质子加速器有效
| 申请号: | 200980131131.0 | 申请日: | 2009-08-11 |
| 公开(公告)号: | CN102119584A | 公开(公告)日: | 2011-07-06 |
| 发明(设计)人: | 马歇尔·R·克莱兰德;理查德·A·加洛韦;伦纳德·德桑图;伊维斯·钟恩 | 申请(专利权)人: | 离子束应用股份有限公司 |
| 主分类号: | H05H5/00 | 分类号: | H05H5/00;H05H5/02;H05H15/00 |
| 代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
| 地址: | 比利时卢万*** | 国省代码: | 比利时;BE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 直流 质子 加速器 | ||
1.一种能够在高能(0.3MeV或更大)下使强流(5mA或更大)质子束加速的加速器系统,包括:
直流加速结构,具有加速列,所述加速列包括通过绝缘环彼此分离的多个导电电极,所述加速列被配置成提供加速电场以使所述质子束加速;
高压(0.3MeV或更大)、大电流(5mA或更大)电源,为所述加速结构提供加速电压;
质子离子源,具有束提取孔,所述质子离子源提供5mA或更大的质子束,并且通过所述束提取孔释放少于3SCCM的中性氢气;
偶极分析磁铁,位于所述离子源与所述加速列之间,所述分析磁铁的场构造阻止除了由所述离子源产生的质子之外的离子到达所述加速结构。
2.如权利要求1所述的加速系统,还包括连接至真空室的真空泵,所述真空室连接所述离子源和所述加速结构。
3.如权利要求1所述的加速系统,其中,所述高压电源是高频高压加速器结构。
4.如权利要求1所述的加速系统,其中,所述离子源利用微波以使气体电离。
5.如权利要求4所述的加速系统,其中,所述离子源使用电子回旋共振以使所述气体电离。
6.如权利要求1所述的加速系统,其中,所包括的权利要求1所述的偶极分析磁铁是固定场分析磁铁。
7.如权利要求6所述的加速系统,其中,所述固定场分析磁铁被设计为双聚焦。
8.如权利要求1所述的加速系统,还包括设置在所述加速列周围的多块永久磁铁材料,所述多块永久磁铁材料被定位以阻止次级电子在所述加速列中向后被加速。
9.如权利要求1所述的加速系统,其中,直径小于所述加速列的电极的直径的孔被设置在所述加速结构的入口处。
10.如权利要求2所述的加速系统,还包括直径小于所述加速列的电极的直径的孔,所述孔被设置在所述加速结构的入口处。
11.如权利要求1所述的加速系统,其中,通过一对正交扫描磁铁在接收表面上扫描已加速的束,所述束散布在至少1平方米的接收表面上。
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