[发明专利]有害物质去除材料以及去除有害物质的方法无效
| 申请号: | 200980130212.9 | 申请日: | 2009-07-29 |
| 公开(公告)号: | CN102112222A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
| 发明(设计)人: | 岩永宏 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | B01J20/24 | 分类号: | B01J20/24;A61L9/01;B01D39/14 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张晓威 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有害物质 去除 材料 以及 方法 | ||
1.有害物质去除材料,其由载体组成,所述载体上负载有抗体以及对所述抗体的Fc区中的糖链具有亲和性的糖链亲和物质。
2.如权利要求1所述的有害物质去除材料,其中所述抗体为IgG。
3.如权利要求1或2所述的有害物质去除材料,其中所述糖链亲和物质具有与IgG的Fc区中的糖链寡糖单元相同的寡糖单元。
4.如权利要求1-3中任一项所述的有害物质去除材料,其中所述糖链亲和物质为包含选自葡萄糖、半乳糖、甘露糖、木糖、岩藻糖、N-乙酰葡糖胺、N-乙酰半乳糖胺和N-乙酰神经氨酸中的至少一种的糖链。
5.如权利要求1-4中任一项所述的有害物质去除材料,其中所述载体的表面包覆有所述糖链亲和物质。
6.如权利要求1-5中任一项所述的有害物质去除材料,其在所述载体上具有亲水聚合物以及所述糖链亲和物质。
7.如权利要求6所述的有害物质去除材料,其中所述亲水聚合物具有选自羟基、氨基、酰氨基、羧酸基和季氨基的至少一种官能团。
8.如权利要求1-7中任一项所述的有害物质去除材料,其中包含所述糖链亲和物质的层的平均厚度为5nm至20nm。
9.如权利要求1-8中任一项所述的有害物质去除材料,其中所述抗体源自于鸵鸟。
10.去除有害物质的方法,其包括利用如权利要求1-9中任一项所述的有害物质去除材料来去除气相或液相中的有害物质。
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