[发明专利]使用三价铬化合物处理金属表面的方法和组合物无效
| 申请号: | 200980126616.0 | 申请日: | 2009-05-01 |
| 公开(公告)号: | CN102089460A | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
| 发明(设计)人: | R·J·丘奇 | 申请(专利权)人: | 布尔克化学有限公司 |
| 主分类号: | C23C22/34 | 分类号: | C23C22/34;C23C22/83;C09D5/08 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 过晓东;谭邦会 |
| 地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 使用 三价铬 化合物 处理 金属表面 方法 组合 | ||
1.一种处理金属表面的组合物,所述组合物包括水、三价铬化合物、有机官能硅烷、和IV-B族元素化合物。
2.权利要求1的组合物,其中IV-B族元素化合物为选自以下组中的酸:氟锆酸、氟钛酸、和氟铪酸。
3.权利要求2的组合物,其中酸为氟锆酸。
4.权利要求1的组合物,其中有机官能硅烷选自以下组中:氨丙基三乙氧基硅烷、巯基硅烷、和环氧硅烷。
5.权利要求4的组合物,其中有机官能硅烷为氨丙基三乙氧基硅烷。
6.权利要求1的组合物,其中三价铬化合物包括氟化铬。
7.权利要求6的组合物,其中三价铬化合物还包括硝酸铬。
8.权利要求1的组合物,其中组合物还包括二氟化铵。
9.权利要求1的组合物,其中三价铬化合物为氟化铬,有机官能硅烷为氨丙基三乙氧基硅烷,IV-B族元素化合物为氟锆酸,氟化铬(作为CrF3·4H2O)的存在量为0.01-0.15wt%;氨丙基三乙氧基硅烷的存在量为0.04-0.5wt%;氟锆酸的存在量为0.01-0.2wt%,组合物的pH为3.5-4.5。
10.权利要求9的组合物,其中氟化铬(作为CrF3·4H2O)的存在量为0.02-0.04wt%;氨丙基三乙氧基硅烷的存在量为0.09-0.2wt%;氟锆酸的存在量为0.03-0.08wt%,组合物的pH为3.8-4.2。
11.权利要求1的组合物,其还包括含有多个羧基官能团和多个羟基的至少一种聚合物。
12.权利要求11的组合物,其中至少一种聚合物包括聚(甲基乙烯基醚/马来酸)和聚(乙烯醇)。
13.一种处理金属表面的方法,所述方法包括使金属表面与组合物接触的步骤,所述组合物包括水、三价铬化合物、有机官能硅烷、和IV-B族元素化合物。
14.权利要求13的方法,其中IV-B族元素化合物为选自以下组中的酸:氟锆酸、氟钛酸、和氟铪酸。
15.权利要求14的方法,其中酸为氟锆酸。
16.权利要求13的方法,其中有机官能硅烷选自以下组中:氨丙基三乙氧基硅烷、巯基硅烷、和环氧硅烷。
17.权利要求16的方法,其中有机官能硅烷为氨丙基三乙氧基硅烷。
18.权利要求13的方法,其中三价铬化合物包括氟化铬。
19.权利要求18的方法,其中三价铬化合物还包括硝酸铬。
20.权利要求13的方法,其中三价铬化合物为氟化铬,有机官能硅烷为氨丙基三乙氧基硅烷,IV-B族元素化合物为氟锆酸,氟化铬(作为CrF3·4H2O)的存在量为0.01-0.15wt%;氨丙基三乙氧基硅烷的存在量为0.04-0.5wt%;氟锆酸的存在量为0.01-0.2wt%,组合物的pH为3.5-4.5。
21.权利要求20的方法,其中氟化铬(作为CrF3·4H2O)的存在量为0.02-0.04wt%;氨丙基三乙氧基硅烷的存在量为0.09-0.2wt%;氟锆酸的存在量为0.03-0.08wt%,并且组合物的pH为3.8-4.2。
22.权利要求13的方法,其中金属为铝或铝合金。
23.权利要求13的方法,其中组合物还包括含有多个羧基官能团和多个羟基的至少一种聚合物。
24.权利要求23的方法,其中至少一种聚合物包括聚(甲基乙烯基醚/马来酸)和聚(乙烯醇)。
25.权利要求13的方法,其中组合物还包括二氟化铵。
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