[发明专利]基于供体/受体交替共聚物的高性能可溶液加工半导体聚合物

权利要求书

1.一种包含式(I)的基团作为重复单元并且具有30-70kg/mol的数均分子量M_n的苯并噻二唑-环戊二烯并二噻吩共聚物：

其中R为正十六烷基或3，7-二甲基辛基。

2.根据权利要求1的共聚物作为半导体或电荷传输材料的用途，作为薄膜晶体管(TFT)的用途，或在有机发光二极管(OLED)用半导体组件中的用途，用于光伏组件或在传感器中的用途，在电池中作为电极材料的用途，作为光波导的用途或用于电子照相应用的用途。

3.一种组合物，包含溶于或分散于液体介质中的一种或多种权利要求1的聚合物。

4.一种薄膜半导体，包含一种或多种权利要求1的共聚物。

5.一种组合件，包含基底和沉积在所述基底上的权利要求4的薄膜半导体。

6.一种制备权利要求5的组合件的方法，包括将权利要求1的共聚物溶于液体介质中以形成溶液，将所述溶液沉积在基底上并除去溶剂而在基底上形成薄膜半导体。

7.根据权利要求6的方法，其中所述溶液通过旋涂、浸涂或印刷沉积。

8.一种场效应晶体管器件，包含权利要求4的薄膜半导体或权利要求5的组合件。

9.一种光伏器件，包含权利要求4的薄膜半导体或权利要求5的组合件。

10.一种有机发光二极管器件，包含权利要求4的薄膜半导体或权利要求5的组合件。