[发明专利]光源与光学部件之间的接口有效

专利信息
申请号: 200980125513.2 申请日: 2009-08-22
公开(公告)号: CN102754004A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: M.阿斯哈里 申请(专利权)人: 科途嘉光电公司
主分类号: G02B6/26 分类号: G02B6/26
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李娜;蒋骏
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 光源 光学 部件 之间 接口
【权利要求书】:

1. 一种形成光学系统的方法,包括:

产生具有在第一光透射介质中限定的波导的光学设备,所述第一光透射介质位于底座上,所述光学设备包括从激光器平台向上延伸的多个止动块;

产生激光器棒,所述激光器棒具有多个激光器,每个激光器至少部分地由脊来限定,所述脊包括增益介质,每个脊具有多个脊层,

所述激光器棒还具有多个对准沟槽,每个对准沟槽包括辅助止动块,每个辅助止动块包括相互接触的子层,

每个子层具有与接触该子层的一个或多个子层不同的化学成分,

每个所述子层对应于所述脊层中的一个,因为每个子层具有与相应脊层相同的化学成分;

去除所述子层中的一个或多个;以及

将所述激光器棒放置在所述激光器平台上,使得每个激光器与所述波导中的一个对准,并且每个止动块延伸到所述对准沟槽中的一个中,使得每个止动块接触所述辅助止动块中的一个。

2. 权利要求1的方法,其中,所述子层在所述增益介质的上层与所述增益介质的下层之间。

3. 权利要求1的方法,其中,由包括掺杂剂的增益介质层来限定每个子层。

4. 权利要求1的方法,其中,所述子层中的一个限定每个辅助止动块的顶部。

5. 权利要求1的方法,其中,去除所述子层中的一个或多个包括蚀刻掉所述一个或多个层。

6. 权利要求5的方法,其中,在蚀刻掉所述一个或多个子层时所采用的蚀刻对于所述一个或多个子层而言比对于紧挨着在所述一个或多个子层下面的层而言更具腐蚀性,使得紧挨着在所述一个或多个子层下面的层充当针对该蚀刻的蚀刻停止层。

7. 权利要求1的方法,其中,每个辅助止动块从所述对准沟槽中的一个的底部向上延伸。

8. 权利要求1的方法,其中,去除所述一个或多个子层使得与如果所述一个或多个子层未被去除、所应有的激光器棒相对于光学设备的高度相比,该高度减小。

9. 权利要求1的方法,其中,在去除所述一个或多个层之前的所述辅助止动块中的层的数目大于3。

10. 权利要求1的方法,其中,凹进延伸到所述底座中,从而限定所述激光器平台,所述止动块从所述平台向上延伸,并且将所述激光器棒放置在所述光学设备上包括将所述激光器棒放置在所述激光器平台上。

11. 权利要求10的方法,其中,所述底座包括基底上的光绝缘体,所述光绝缘体接触所述第一光透射介质并具有比所述第一光透射介质低的折射率,

所述基底的一部分从所述激光器平台向上延伸并被包括在所述止动块中,

包层被定位在所述波导上,并且还被包括在每个止动块中。

12. 一种光学系统,包括:

光学设备,其具有在第一光透射介质中限定的光学波导,所述第一光透射介质位于底座上,所述光学设备包括从激光器平台向上延伸的多个止动块;

具有多个激光器的激光器棒,所述激光器棒位于所述平台上,使得每个激光器与所述波导中的一个对准,所述激光器棒包括多个对准沟槽,每个对准沟槽包括从所述对准沟槽的底部向上延伸的辅助止动块,所述辅助止动块包括具有不同成分的材料层;

所述止动块均延伸到对准沟槽中,使得每个止动块接触所述辅助止动块中的一个。

13. 权利要求12的系统,其中,所述层均具有不同的成分,并包括选自由In、P、Ga、和As构成的组的两个或更多元素。

14. 权利要求12的系统,其中,所述层还存在于所述激光器棒上的脊中,每个激光器均被配置为在所述脊中的一个内至少部分地产生光信号。

15. 权利要求12的系统,其中,所述激光器位于所述平台上,使得去除所述层中的一个或多个将降低所述激光器棒相对于所述光学设备的高度。

16. 权利要求12的系统,其中,凹进延伸到所述底座中而不贯穿所述底座,使得限定凹进底部的底座的部分限定所述激光器平台,并使得所述止动块从所述平台向上延伸。

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