[发明专利]改进的研磨抛光机

权利要求书

1.一种改进的研磨抛光机，包括：

基座，所述基座具有碗状物，转动的驱动盘和驱动盘驱动器，所述驱动盘适于支撑压盘；

头部，所述头部设置成支撑样品支架并具有用于样品支架的转动驱动的第一驱动器，所述头部具有用于移动所述头部和所述样品支架接近和远离压盘的第二驱动器，所述头部包括测压元件，该测压元件可操作地与第一驱动器连接，和计数器，所述计数器设置用于确定头部接近和远离压盘的移动和移动程度；以及

控制系统。

2.根据权利要求1所述的研磨抛光机，其中，当第二驱动器以向前的方向操作移动样品支架与压盘接触时，测压元件适于检测样品支架和压盘之间的接触，并且一旦检测到接触时所述第二驱动器操作用于停止向前方向的移动。

3.根据权利要求2所述的研磨抛光机，其中，在检测到的在样品支架和压盘之间的接触之后，所述第二驱动器停止并且反转移动样品支架远离压盘预定的距离。

4.根据权利要求1所述的研磨抛光机，其中，所述测压元件设置用于检测由样品和压盘之间的接触产生的负荷，并且当研磨抛光机运转时产生信号以致动所述第二驱动器随着负荷的变化向前方向操作移动所述样品接近所述压盘。

5.根据权利要求2所述的研磨抛光机，包括主驱动轴，所述主驱动轴可操作地与样品支架连接并可操作地连接到所述测压元件上，其中施加在所述主驱动轴上的力提供由样品支架和压盘之间的接触产生的负荷的检测。

6.根据权利要求1所述的研磨抛光机，包括导螺杆，所述导螺杆用于移动样品支架接近和远离压盘，所述导螺杆可操作地与所述计数器连接。

7.根据权利要求1所述研磨抛光机，包括托架和轨道，所述轨道用于移动所述头部和样品支架接近和远离所述压盘。

8.根据权利要求1所述研磨抛光机，其中所述控制系统是封装的，至少部分在外壳中并且包括微处理器控制的控制系统。

9.根据权利要求8所述研磨抛光机，其中所述控制系统包括触摸板或屏。

10.一种改进的研磨抛光机，包括：

基座，所述基座具有碗状物，转动的驱动盘和驱动盘驱动器，所述驱动盘适于支撑压盘；

头部，所述头部设置用于支撑样品支架并具有用于样品支架的旋转驱动的第一驱动器，所述头部具有用于移动样品支架接近和远离所述压盘的第二驱动器，头部的一部分可与样品支架一起转动；

指状物，该指状物可以从可与所述样品支架一起旋转的头部的部分伸出或缩回，所述指状物设置成与定位在样品支架上的样品接触并施加压力在样品上以使所述样品接合所述压盘。

11.根据权利要求10所述的研磨抛光机，其中所述指状物偏向于所述缩回位置。

12.根据权利要求10所述的研磨抛光机，包括用于伸展所述指状物的装置。

13.根据权利要求10所述研磨抛光机，其中所述指状物由具有涂层的基材形成。

14.根据权利要求13所述的研磨抛光机，其中所述涂层是陶瓷材料。

15.一种改进的研磨抛光机，包括：

基座，所述基座具有碗状物，转动的驱动盘和驱动盘驱动器，所述驱动盘适于支撑压盘；所述压盘为限定了外围的圆形并且位于所述碗状物中；

头部，所述头部被设置成支撑样品支架并具有用于样品支架的转动驱动的第一驱动器，所述头部具有用于移动样品支架接近和远离所述压盘的第二驱动器；以及

可替换的用于与碗状物匹配的碗状衬垫，所述碗状物和碗状衬垫大体上呈D形，其中在所述压盘外围和所述碗状衬垫之间限定的空间用于手接近所述压盘。

16.根据权利要求15所述的研磨抛光机，其中所述碗状衬垫是透明的。

17.根据权利要求15所述的研磨抛光机，其中所述碗状衬垫由塑料形成。

18.一种改进的研磨抛光机，包括：

基座，所述基座具有碗状物，转动的驱动盘和驱动盘驱动器，所述驱动盘适于支撑压盘；

头部，所述头部设置成支撑样品支架并具有用于样品支架的旋转驱动的第一驱动器，所述头部具有用于移动样品支架接近和远离所述压盘的第二驱动器；以及

设置在所述头部的照明设备。