[发明专利]用于从液体提取气体的设备和方法

权利要求书

1.用于从流体提取气体的设备，包括：

壳体，所述壳体限定流体通路和与所述流体通路隔离的气体通路，所述壳体具有通入所述流体通路中的进口和从所述流体通路出去的出口，并且所述壳体具有通入所述气体通路中的进口和从所述气体通路出去的出口；

至少一个分离隔膜，所述至少一个分离隔膜在所述壳体中，所述分离隔膜将所述气体通路与所述流体通路分离，所述至少一个分离隔膜包括基本不能渗透流体并且能够渗透气体的氟硅氧烷构件，所述分离隔膜具有面向所述流体通路的第一侧和面向所述气体通路的第二侧；

多孔隔膜支撑件，所述多孔隔膜支撑件面向所述分离隔膜的第一侧；并且

其中所述流体通路包括所述至少一个隔膜的第一侧。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个分离隔膜是模制的。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述至少一个分离隔膜限定大致平坦的圆盘，所述圆盘在其周边部分处较厚并且在所述平坦的圆盘的中心处较薄。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述流体通路中的流体包含溶解的气体，并且所述气体从所述流体通路通过所述隔膜扩散到所述气体通路中。

5.根据权利要求1所述的设备，其具有第一分离隔膜和第二分离隔膜，每个隔膜具有第一侧和第二侧，所述隔膜中的两个隔膜以隔开的关系保持在所述壳体中，使得所述第一隔膜的第二侧面向所述第二隔膜的第二侧，从而在所述至少两个隔膜之间限定空间，并且所述空间在所述气体通路中。

6.根据权利要求5所述的设备，其包括在所述第一隔膜的第一侧上的第一多孔隔膜支撑件和在所述第二隔膜的第一侧上的第二多孔隔膜支撑件。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述壳体还包括第一板、第二板和在所述第一板与第二板之间的环，并且其中所述第一分离隔膜保持在所述第一板上且所述第二分离隔膜保持在所述第二板上。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述第一多孔隔膜支撑件邻近所述第一板，并且所述第二多孔隔膜支撑件邻近所述第二板。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述第一多孔隔膜支撑件和第二多孔隔膜支撑件由烧结的青铜釉料形成。

10.根据权利要求5所述的设备，其包括多于两个的分离隔膜。

11.根据权利要求9所述的设备，其还包括在所述第一隔膜和第二隔膜的第二侧之间的间隔器，所述间隔器在所述气体通路中并且能够渗透气体，并且所述间隔器维持所述隔膜处于隔开的关系。

12.根据权利要求11所述的设备，其中所述间隔器包括纸张。

13.用于从流体分离气体的设备，包括：

壳体，所述壳体限定用于第一流体流的第一通路和用于包含第二流体流的、分开的第二通路；

分离隔膜装置，所述分离隔膜装置在所述第一通路与第二通路之间，用以从所述第一流体流去除组分并且将所述组分传送到所述第二流体流中，所述分离隔膜装置包括具有第一表面的氟硅氧烷构件；

支撑装置，所述支撑装置用于在其第一表面处支撑所述分离隔膜装置，并且用于使所述第一流中的流体在所述第一表面上散开。

14.根据权利要求13所述的设备，其中所述分离隔膜装置还包括模制圆盘，所述圆盘围绕周边部分的厚度大于中央部分处的厚度。

15.根据权利要求14所述的设备，其中所述分离装置还包括以隔开的关系保持在所述壳体中的第一氟硅氧烷构件和第二氟硅氧烷构件，并且其中所述第二流体流在所述第一氟硅氧烷构件与第二氟硅氧烷构件之间。