[发明专利]利用连续波紫外光LED固化的选择性沉积成形有效
| 申请号: | 200980121424.0 | 申请日: | 2009-04-24 |
| 公开(公告)号: | CN102056729A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
| 发明(设计)人: | J·H·利姆;H·V·安古洛;J·D·克莱 | 申请(专利权)人: | 3D系统公司 |
| 主分类号: | B29C67/00 | 分类号: | B29C67/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张荣海 |
| 地址: | 美国南*** | 国省代码: | 美国;US |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 利用 连续 紫外光 led 固化 选择性 沉积 成形 | ||
技术领域
本发明涉及实体自由成形制造,尤其涉及利用连续紫外光(UV)辐射固化多层制作材料,以形成三维结构或物体的选择性沉积成形方法、系统和设备。
背景技术
几种技术被用于快速产生用于限量制造的实体三维模型、原型和零件。这些技术通常被称为实体自由成形制造(SFF)技术,包括立体光刻术,选择性沉积成形(SDM),立体印刷,分层实体制造,选择性相区沉积(selective phase area deposition),多相喷射固化,弹道粒子制造,熔融沉积成形,粒子沉积,激光烧结等等。通常在SFF技术中,与本质上通常为减成法的常规制造技术相反,按照加成方式用成形材料生产复杂零件。
在许多SFF技术中,通过凝固或固化连续多层的制作材料,逐层地形成三维物体。例如,在立体光刻术中,使紧密聚焦的能量束(一般在紫外光辐射带中)扫描一层液体感光聚合物制作材料,以有选择地固化所述制作材料,从而形成物体。在SDM中,一般以不连续小滴的形式喷射或滴落制作材料,或者通过喷嘴挤出制作材料,从而当接触制作平台或者前一层凝固的材料时凝固,以便层状地制作三维物体。在SFF行业中使用的SDM的其它名称是实体成像,实体成形,熔融沉积成形,选择性相区沉积,多相喷射成形,立体印刷,热立体光刻术,选择性相区沉积,弹道粒子制造,熔融沉积成形等等。
例如,在Masters的美国专利No.5,216,616中公开了弹道粒子制造。例如,在Crump的美国专利No.5,340,433中公开了熔融沉积成形。例如,在Sachs等的美国专利No.5,204,055中公开了立体印刷。具有低熔点的热塑性材料通常被用作SDM中的实体成形材料,它是通过诸如挤出机或打印头之类的喷射系统配送的。例如,在Batchelder等的美国专利No.5,866,058中描述一种挤出热塑性材料的SDM工艺。例如,在Menhennett等的美国专利No,5,555,176中描述一种利用喷墨打印头的SDM工艺。
最近,产生了在SDM中利用可固化材料的兴趣。在Helinski的美国专利No.5,136,515中见到利用可辐射固化制作材料的第一建议之一,其中提出在SDM设备中有选择地分配可UV固化的制作材料。在国际专利申请No.WO 97/11837的附录A中可见到提出的供SDM设备之用的一些最初的可UV固化材料配方,其中提供了三种活性材料成分。在Gothait的美国专利No.6,259,962;Titterington等的美国专利No.5,380,769;Leyden等的美国专利Nos.6,133,355和5,855,836;美国专利申请公开No.US 2002/0016386 A1;和国际公开号WO01/26023,WO 00/11092和WO 01/68375中提供了在各种选择性沉积成形中使用可固化材料的最新教导。
这些可固化材料一般包含光引发剂和感光聚合物,当暴露在紫外光辐射(UV)下时,所述感光聚合物开始交联和凝固。通常,这些可固化材料包含不可固化的组分,这种不可固化的组分使材料能够在固化之前被分配,之后凝固。需要这种性质,以致在暴露于紫外光辐射之下之前,有选择地分配的材料将保持其形状。
对有选择地分配可固化材料的SDM设备来说,理想的是借助对UV辐射的整片曝光,引发分配材料的固化。不过,开发有效地在这些材料中引发固化的整片UV曝光系统已证明是成问题的。当通过暴露于UV辐射下而激发薄层中的光引发剂时,光引发剂释放用来与感光聚合物反应,并引发聚合(固化)过程的自由基。由于这些薄层大面积地暴露在大气中,因此自由基往往会与大气中的氧气反应,而不是与感光聚合物反应以引发固化。这种固化阻碍现象被称为“氧阻聚”,它会不利地减小或者阻止发生聚合过程。在立体光刻术中实际上并不存在氧阻聚,因为紧密聚焦的UV辐射束在较小的区域内触发自由基的瞬时巨大释放。该区域如此之小,以致自由基没有机会与大气中的氧气反应。不过,在为了引发固化过程,期望较宽的平面整片曝光的SDM应用中,氧阻聚是一个相当大的问题。尽管把SDM制作环境淹没在惰性气体中,能够克服这种现象,不过提供这样的系统会对SDM设备增加额外的复杂性和费用。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3D系统公司,未经3D系统公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980121424.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于清洗机中的圆盘轨道
- 下一篇:快捷折叠便携自行车





