[发明专利]照明设备有效
申请号: | 200980120896.4 | 申请日: | 2009-05-27 |
公开(公告)号: | CN102057212A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | R·A·M·希克梅特;T·范博梅尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | F21S10/00 | 分类号: | F21S10/00;F21S8/04;F21V9/00;G02B27/09 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李亚非;刘鹏 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明设备 | ||
技术领域
本发明涉及照明设备、照明方法和用于控制照明设备的计算机程序。
背景技术
WO 2006/007301A1公开了一种照明设备,其包括光源、包括输出表面的光导、布置在光源和光导的输出表面之间的发射材料以及布置在发射材料和光导的输出之间的干涉反射器。光源发射具有第一光学特性的光。发射材料在使用具有第一光学特性的光照射时发射具有第二光学特性的光。干涉反射器基本上透射具有第二光学特性的光且基本上反射具有第一光学特性的光。该照明设备具有照明配置是固定的且不能容易修改的缺点。
发明内容
本发明的目的是提供一种照明设备、照明方法和用于控制该照明设备的计算机程序,其中照明配置可以更容易地修改。
在本发明的第一方面中,提供一种照明设备,该照明设备包括:
-激光源,用于发射激光,
-第一激光修改单元,用于修改激光的光学特性,所述第一激光修改单元位于第一位置,
-第二激光修改单元,用于修改激光的光学特性,所述第二激光修改单元位于第二位置,
-激光分布修改单元,用于将引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的激光分布从第一激光分布修改为不同于该第一激光分布的第二激光分布。
本发明基于以下认知:如果激光源的激光被引导到分别位于第一和第二位置的第一和第二激光修改单元至少之一上,且如果激光分布修改单元将引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的激光分布从第一激光分布修改为不同于第一激光分布的第二激光分布,则可以容易地修改照明配置。例如,第一激光分布可以对应于仅引导到第一激光修改单元上的激光,且第二激光分布可以对应于仅引导到第二激光修改单元上的激光。因为第一和第二激光修改单元分别位于第一和第二位置,通过将激光分布从第一激光分布修改为第二激光分布而修改照明配置。此外,因为激光源提供激光,激光束具有高能量密度属性,光能可以在相对大的距离上传输到第一和第二激光修改单元至少之一,同时光能被约光束为极小的光束直径。激光束位置中的小偏移,例如,几分之一毫米的小偏移可能就足以修改引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的激光分布。激光源、位于第一位置的第一激光修改单元、位于第二位置的第二激光修改单元、以及用于将引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的激光分布从第一激光分布修改为第二激光分布的激光分布修改单元的组合因而允许对照明配置进行容易的修改。
第一和第二位置优选地不同。此外,照明设备可以包括若干第一和/或若干第二激光修改单元,且激光分布可以修改为若干第一和/或若干第二激光分布,即,本发明不限于仅两个激光修改单元或仅两个激光分布。
第一和第二激光修改单元适合于修改引导到这些单元上的激光的光学特性。可以通过第一和/或第二激光修改单元修改的光学特性例如是光的光谱分布、其准直度、方向、强度和/或光束图形。引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的光的光谱分布和其他属性例如可以通过发光材料修改,在激光被引导到发光材料上时该发光材料发射冷光(luminescent light)。因而可以使用诸如有机或无机磷光体的发光材料通过全部或部分转换而修改激光的光谱以及另外其他特性。在一个实施例中,可以由第一和第二激光修改单元至少之一产生的光束图形例如是图片或文字。
激光分布单元优选地包括光学元件,该光学元件允许将引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的激光分布从第一激光分布修改为不同于第一激光分布的第二激光分布。这些光学元件例如是光束分离器、镜、偏振旋转器等。
第一和第二激光修改单元可以彼此相邻布置,使得对于看到源于第一和第二激光修改单元的光的人,光看上去从相同的位置发射。在另一实施例中,第一和第二激光修改单元其中之一或形成第一组的若干第一和第二光修改单元可以位于第一位置,且第一和第二激光修改单元中另一个或另一组第一和第二激光修改单元可以位于第二位置,其中第一和第二位置彼此并不靠近,使得人们可以区分来自第一位置的光和来自第二位置的光。例如,在一个实施例中,第一位置位于房间的天花板中,位于桌子上方以用于基本上仅仅照射该桌子,且第二位置位于房间中间的天花板中以用于照射房间的较大部分。第一和第二位置之间的距离优选地大于1厘米,更优选地大于10厘米且甚至更优选地大于1米。相邻激光修改单元之间的距离优选地小于1厘米,优选地小于0.5厘米,且优选地小于1毫米。
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