[发明专利]过滤介质

权利要求书

1.一种纤维过滤介质，所述纤维过滤介质的纤维表面通过接触等离子体沉积处理而在其上沉积聚合物涂层，从而得到修饰。

2.如权利要求1所述的纤维过滤介质，其中，在组装到所述过滤介质中之前，使纤维接触所述等离子体沉积处理。

3.如权利要求1所述的纤维过滤介质，其中，使形成的介质接触所述等离子体沉积处理。

4.如前述权利要求中任一项所述的纤维过滤介质，所述纤维过滤介质为静电(经摩擦带电的)过滤介质。

5.如前述权利要求中任一项所述的纤维过滤介质，其中，所述纤维介质包含：聚丙烯、二乙酸纤维素酯、聚(对苯二甲酸乙二醇酯)、尼龙、聚氯乙烯、改性丙烯酸类、丙烯酸类、棉、丝或毛或上述物质的混合物，所述棉、丝或毛可选地经氯化处理和/或涂覆有尼龙。

6.一种用于制备前述权利要求中任一项所述的纤维过滤介质的方法，所述方法包括：使(i)纤维过滤介质或(ii)纤维接触包含碳氢化合物或碳氟化合物单体的等离子体，从而在其表面上形成聚合物层，在(ii)的情况中，由所述纤维形成纤维过滤介质。

7.如权利要求6所述的方法，其中，所述等离子体是脉冲式的。

8.如权利要求6或7所述的方法，其中，所述单体为式(I)的化合物：

其中R¹、R²和R³独立地选自氢、卤素、烷基、卤代烷基或可选地取代有卤素的芳基；R⁴是基团X-R⁵，其中R⁵是烷基或卤代烷基，X是：键；式-C(O)O(CH₂)_nY-的基团，其中n是1～10的整数，Y是键或磺酰胺基团；或者基团-(O)_pR⁶(O)_q(CH₂)_t-，其中R⁶是可选地取代有卤素的芳基，p是0或1，q是0或1，t是0或1～10的整数，而且当q为1时t不为0。

9.如权利要求8所述的方法，其中，所述式(I)的化合物是式(II)的化合物：

        CH₂＝CH-R⁵        (II)

其中R⁵如权利要求8所定义，或者

所述式(I)的化合物是式(III)的化合物：

        CH2＝CR7aC(O)O(CH2)nR5        (III)

其中n和R⁵如权利要求1所定义，R^7a是氢、C_1-10烷基或C_1-10卤代烷基。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述式(I)的化合物是式(III)的化合物。

11.如权利要求10所述的方法，其中，所述式(III)的化合物是式(IV)的化合物：

其中R^7a如权利要求8所定义，x为1～9的整数。

12.如权利要求11所述的方法，其中，所述式(IV)的化合物为丙烯酸-1H，1H，2H，2H-十七氟癸酯。

13.如权利要求6～12中任一项所述的方法，其中，将所述过滤介质或纤维放置于等离子体沉积室中，在所述室中引发辉光放电，并以脉冲场形式施加电压。

14.如权利要求13所述的方法，其中，施加的电压的功率为40W～500W。

15.如权利要求11或12所述的方法，其中，所述电压是以接通时间∶关闭时间的比例为1∶100～1∶1500的序列脉冲式施加的。

16.如权利要求6～15中任一项所述的方法，其中，在初始步骤中对所述纤维介质或所述纤维施加连续功率的等离子体。

17.如权利要求16所述的方法，其中，在惰性气体的存在下进行所述初始步骤。

18.如权利要求6～17中任一项所述的方法，其中，所述涂层为疏水性涂层。