[发明专利]光学相干断层分析设备、方法及系统有效
| 申请号: | 200980119252.3 | 申请日: | 2009-03-17 |
| 公开(公告)号: | CN102046067B | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
| 发明(设计)人: | 亚历山大·C·沃尔什;保罗·G·厄普代克;斯瑞尼瓦·R·瑟达 | 申请(专利权)人: | 多汉尼眼科研究所 |
| 主分类号: | A61B3/10 | 分类号: | A61B3/10 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 相干 断层 分析 设备 方法 系统 | ||
1.一种光学相干断层分析设备,包括:
第一和第二接目镜,用于分别容纳对象的第一和第二眼睛;
光源,用于输出光,光穿过所述第一接目镜照进对象的所述第一眼睛;
干涉仪,配置用于使用从对象的所述第一眼睛反射的光产生光学干涉;
光学检测器,布置用于检测所述光学干涉;
电子装置,与所述光学检测器耦合,并且配置用于基于利用所述干涉仪所获得的光学相干断层分析测量结果来执行风险评估;
输出装置,与该电子装置电耦合,所述输出装置配置用于输出风险评估结果;
至少一个自动聚焦透镜,设置在所述光源和所述对象的第一眼睛之间的光路上,以便将来自所述光源的光聚焦于所述对象的第一眼睛并反射以及从所述对象的第一眼睛反射的光行进穿过所述至少一个自动聚焦透镜以产生光学干涉,所述至少一个自动聚焦透镜配置用于根据检测到的光学干涉来使所述设备聚焦;
瞳孔间距调整装置,配置为辅助所述对象进行瞳孔间距调整;以及
Z定位模块,配置为自动且独立地调整每个接目镜的Z偏移。
2.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述光源包括超辐射发光二极管。
3.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,干涉仪包括配置用于对从对象的所述第一眼睛反射的所述光产生光学干涉的光束合成器或光栅。
4.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置配置用于通过经由网络向远程系统传输光学相干断层分析测量结果来执行风险评估,所述远程系统配置用于基于光学相干断层分析测量结果来执行风险评估,其中所述远程系统配置用于将所述风险评估结果发送至所述电子装置,以通过输出装置输出。
5.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,还包括存储器,存储用于指示所述电子装置执行所述风险评估的多个处理指令。
6.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置在不产生B-扫描的情况下,基于A-扫描数据确定所述风险评估结果。
7.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置基于视网膜或视网膜中央窝的异常增厚、视网膜外半层中的高反射或低反射结构的存在、视网膜的内半层中低反射结构的存在、视网膜色素上皮细胞轮廓偏离眼睛正常曲率的不规则、或者光穿过视网膜色素上皮细胞的高透射率与正常值的数据库的比较,来收集数据以确定黄斑病变的风险。
8.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置基于对特殊疾病特征的检测来收集数据以确定黄斑病变的风险,所述特殊疾病特征包括以下中的至少一个:囊样视网膜变性、外部视网膜水肿、视网膜下液、视网膜下组织、黄斑裂孔、玻璃膜疣、视网膜色素上皮脱离和视网膜色素上皮萎缩。
9.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置基于黄斑和/或乳头周围神经纤维层变薄或视神经乳头的放大凹陷的异常图案,来收集数据以确定青光眼的风险。
10.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置基于图像信号的亮度电平来收集数据以确定早期眼睛疾病的风险。
11.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置基于玻璃体腔内异常高反射特征来收集数据以确定眼色素层炎的风险。
12.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述检测器包括CCD或CMOS检测器阵列,所述电子装置配置为经由网络发送输出。
13.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述输出装置包括打印机或显示器。
14.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置配置用于执行对视觉敏度的评估,并且所述输出装置配置用于通过所述输出装置输出对所述视觉敏度的评估结果。
15.根据权利要求1所述的光学相干断层分析设备,其中,所述电子装置与存储器通信,其中所述存储器存储多个处理指令,用于指示所述电子装置基于检测器接收到的光来产生光学相干断层分析数据。
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