[发明专利]用于增加驻留时间的流动反转室

权利要求书

1.一种系统，其包含：

位于废气通道中的供料装置，其用于将还原剂选择性引入到废气流中；

具有废气入口的外壳，该入口与所述废气通道连通，所述外壳限定了第一流路、第二流路和第三流路，该第一流路在第一方向上引导所述废气流，该第二流路在第二方向上引导所述废气流，和该第三流路将所述废气流引导回到所述第一方向；和

与所述第三流路连通的废气出口。

2.权利要求1的系统，其中所述第一流路是由第一管状元件的第一内壁和第二管状元件的第二内壁限定出来的，该第二管状元件限定出了所述外壳。

3.权利要求2的系统，其中一部分所述第一内壁具有大致圆锥的形状。

4.权利要求2的系统，其中所述第二流路是由所述第二管状元件的所述内壁和所述第一管状元件的第一外壁限定出来的。

5.权利要求4的系统，其中所述第三流路是由所述第一管状元件的所述第一外壁和所述第二管状元件的第二外壁限定出来的。

6.权利要求1的系统，其中所述第二流路具有小于所述第三流路的整体面积。

7.权利要求1的系统，其中所述第一流路、所述第二流路和所述第三流路中的至少一个涂覆有催化剂。

8.权利要求1的系统，其进一步包含与所述外壳相连的包壳，用于存储多余的还原剂。

9.权利要求1的系统，其进一步包含位于所述废气入口中的扩散器，来诱导所述废气流以螺旋模式流过所述第一、第二和第三流路。

10.权利要求9的系统，其中所述扩散器包括多个翅片。

11.权利要求1的系统，其中所述第一流路在所述外壳中的第一双壁管状元件中的拐弯处过渡到所述第二流路。

12.权利要求11的系统，其中所述第二流路在所述外壳中的第二双壁元件的拐弯处过渡到所述第三流路。

13.一种设备，其包含：

具有第一内壁和第一外壁的第一双壁元件，该元件与废气流连通；

具有第二内壁和第二外壁的第二双壁元件，所述第二双壁元件是相对于所述第一双壁元件排列的，以使得所述第二内壁位于所述第一内壁和所述第一外壁之间，所述第一外壁位于所述第二内壁和所述第二外壁之间；和

其中所述第一内壁和所述第二内壁限定出用于所述废气流的第一室，所述第二内壁和所述第一外壁限定出用于所述废气流的第二室，和所述第一外壁和所述第二外壁限定出用于所述废气流的第三室。

14.权利要求13的设备，其中所述第一双壁元件包括拐弯处，来将所述废气流以反方向从所述第一室导向所述第二室。

15.权利要求13的设备，其中所述第二双壁元件包括拐弯处，来将所述废气流以反方向从所述第二室导向所述第三室。

16.权利要求13的设备，其中所述第一内壁、所述第二内壁、所述第一外壁和所述第二外壁中的至少一个涂覆有催化剂。

17.权利要求13的设备，其中至少一部分所述第一内壁具有大致圆锥形状。

18.权利要求13的设备，其中所述第一和第二双壁元件为管状。

19.权利要求13的设备，其进一步包含与所述第二双壁元件的所述第二外壁相连的包壳。

20.权利要求13的设备，其进一步包含位于所述第一室的废气入口的帽盖。

21.权利要求20的设备，其中所述帽盖包括多个翅片，用于诱导所述废气流以螺旋模式进行流动。

22.一种方法，包含：

将还原剂注入到废气流中；

将所述废气流导入第一流动室中；

通过将所述废气流导入第二流动室中，来反转所述废气流的方向；和

通过将所述废气流导入到第三流动室中，来再次反转所述废气流的方向。

23.权利要求22的方法，其中所述第一流动室是由第一双壁元件的第一内壁和第二双壁元件的第二内壁限定出来的。

24.权利要求23的方法，其中所述第二流动室是由所述第二双壁元件的所述第二内壁和所述第一双壁元件的第一外壁限定出来的。