[发明专利]1,2,3,4-四氯六氟丁烷的制造方法和纯化方法

说明书

技术领域

本发明涉及1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法和纯化方法。更详细地说，本发明涉及可以当作作为半导体用蚀刻气体等受到人们关注的六氟-1，3-丁二烯的合成原料等的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法和1，2，3，4-四氯六氟丁烷的纯化方法。

背景技术

1，2，3，4-四氯六氟丁烷作为六氟-1，3-丁二烯的合成原料等是一种重要的化合物，所述六氟-1，3-丁二烯作为在半导体微细加工中使用的蚀刻气体受到人们的瞩目。目前，作为该1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，已知有以下专利文献中记载的方法。

在特开2006-342059号公报(专利文献1)中，记载了通过使以CClX¹X²-CClX³-CClX⁴-CClX⁵X⁶(X为氢原子或氟原子)表示的化合物在液相中与氟进行反应来制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷的方法。专利文献1中记载了，在该方法中作为溶剂可以使用全氟烷烃类、全氟醚类、全氟聚醚类、氯化烃类、和全氟烷基胺类。此外，专利文献1中记载了，在使用1，2，3，4-四氯六氟丁烷作为氟化反应的溶剂时，有不需要分离溶剂与产物的优点，因此是特别优选的。但由于该方法中用溶剂稀释反应原料而在低浓度下实施氟化反应，因而在工业上经济且高效制造目标物这方面留有课题。

对通常的在无催化剂下使有机化合物与氟气直接反应的方法而言，如何有效、不浪费地使用昂贵的氟气是经济上有利地制造目标物的重点。但在上述专利文献1中关于该氟气的利用率却没有任何研究。

因此，专利文献1记载的制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷的方法存在在工业上便宜、有效地制造目标物的课题。

另外，已知1，2，3，4-四氯六氟丁烷中存在光学异构体等异构体，当不区分这些异构体而以混合物的形态用作稀释剂或者溶剂时，多以这些异构体中熔点较高的异构体为基准设定反应温度。因此，在实施液相反应时，有为了保持液状反应而必须确保反应温度为一定程度的高温的情况。这样就引起了下述等问题，即，由于氟化反应中的C-C裂解导致生成低沸点成分等的副反应进行，目标物收率降低，或者进行过度氟化。

因此，除了有效利用上述氟气以外，以高收率进行制造也同样是要解决的课题。

现有技术

专利文献

专利文献1：特开2006-342059号公报

发明内容

本发明的目的在于，提供有效利用昂贵的氟气，在工业上以较便宜的价格有效制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷的方法。

进而，本发明的目的在于提供一种方法，该方法通过在低温下进行氟化反应，使通过C-C断裂产生低沸点物和产生过氟化物等的副反应难以进行，可以稳定地制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷。

此外，本发明的目的在于提供使生成的1，2，3，4-四氯六氟丁烷有效纯化的方法。

即，本发明涉及以下的方案[1]～[10]。

[1].一种1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，当使用多个反应器，在有溶剂但没有催化剂的情况下向1，2，3，4-四氯丁烷供给氟气、使1，2，3，4-四氯丁烷与氟气反应时，将从一反应器排出的未反应的氟气的一部分或全部导入到其它反应器中。

[2].如上述[1]所述的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，上述多个反应器串联配置，将从上游侧的反应器排出的未反应的氟气的一部分或全部导入到下游侧的反应器中。

[3].如上述[2]所述的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，进而将从下游侧的反应器排出的未反应的氟气的一部分或全部导入到上游侧的反应器中。

[4].如上述[2]或[3]所述的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，上述多个反应器是串联配置的2个反应器。

[5].如上述[1]所述的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，上述溶剂含有氟化氢。

[6].如上述[1]所述的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，上述1，2，3，4-四氯丁烷100质量％中含有40质量％以上的作为其光学异构体的外消旋体。

[7].如上述[1]所述的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，将上述1，2，3，4-四氯丁烷和氟气反应得到的含有1，2，3，4-四氯六氟丁烷的反应生成液导入到蒸留塔中，