[发明专利]涂覆玻璃的制备

权利要求书

1.用于生产涂覆玻璃带的方法，其包括步骤：形成玻璃带，在该带的主表面上沉积第一透明导电涂层，所述涂层不延伸到该带的边缘，而该带处于提高的温度下，在受控条件下在退火炉中冷却所述涂覆带并切掉该带的边缘，以便产生具有均匀涂层的带，该涂层在切割带的全部宽度上延伸，其特征在于，将第二导电涂层沉积在该带的未涂覆边缘，而边缘处于高于环境温度的温度下。

2.权利要求1所述的方法，其特征在于是以浮法玻璃生产方法中的一部分生产该带。

3.权利要求1或2所述的方法，其特征在于该带具有至少8mm的厚度。

4.权利要求3所述的方法，其特征在于第一透明涂层具有10nm-500nm的厚度。

5.上述任一项权利要求所述的方法，其特征在于使用化学气相沉积方法在浮法浴槽中沉积第一透明导电涂层。

6.上述任一项权利要求所述的方法，其特征在于将第二涂层施加到玻璃带的边缘并且该带的温度至少为300℃。

7.权利要求6所述的方法，其特征在于该带的温度为500℃-600℃。

8.上述任一项权利要求所述的方法，其特征在于浮法浴槽和退火炉之间的间隙处将第二涂层施加于玻璃带。

9.上述任一项权利要求所述的方法，其特征在于使用热解喷涂沉积方法施加第二涂层。

10.权利要求1-8中任一项所述的方法，其特征在于使用化学气相沉积方法施加第二涂层。

11.权利要求1-8中任一项所述的方法，其特征在于使用燃烧化学气相沉积方法施加第二涂层。

12.上述任一项权利要求所述的方法，其特征在于第一透明涂层是低发射率涂层。

13.权利要求12所述的方法，其特征在于涂覆有第一导电涂层的玻璃的发射率基本与涂覆有第二导电涂层的玻璃的发射率相同。

14.权利要求12或13所述的方法，其特征在于第二导电涂层的发射率为0.2-0.7。

15.上述任一项权利要求所述的方法，其特征在于第二导电涂层包括氧化锡。

16.权利要求15所述的方法，其特征在于第二导电涂层包括掺杂氟的氧化锡。