[发明专利]具有多刻面输出面的转换装置以及包含该转换装置的激光投影系统无效
| 申请号: | 200980114487.3 | 申请日: | 2009-02-24 |
| 公开(公告)号: | CN102007771A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
| 发明(设计)人: | J·高里尔 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31;G02B6/00;G02B27/09;H01S3/10;G02F1/377 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯颖媖 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 多刻面 输出 转换 装置 以及 包含 激光 投影 系统 | ||
1.一种包括激光源、波长转换装置以及束投影光学装置的激光投影系统,其特征在于:
所述波长转换装置包括输入面、输出面以及波导区,所述波导区从输入面延伸到输出面且被限制在一对相对低折射率包覆层之间;
所述波导区包括相对线性波导部分和通过沟槽与所述相对线性波导分离的一对侧向平坦波导部分;
所述波长转换装置的输出面包括多刻面输出面,所述多刻面输出面包括核心刻面和至少两个侧向刻面;
所述波导区被构造成使沿所述波导区从输入面传播到输出面的光信号将限定沿输出面的核心刻面与相对线性波导部分大体对准的相对高强度光斑,且将遭受一定程度散射以限定沿输出面的侧向刻面与侧向平坦波导部分大体对准的相对低强度侧向分布杂光;
所述波长转换装置的输出面的侧向刻面定向成将相对低强度的侧向分布杂光以与相对高强度光斑通过核心刻面投影的方向不同的多个方向投影;以及
所述束投影光学装置被构造成区别侧向分布的杂光和相对高强度光斑,以利于将相对高强度的光信号向激光投影系统的像场投影。
2.如权利要求1所述的激光投影系统,其特征在于,所述多刻面输出面的侧向和核心刻面相对于彼此定向成限定侧向分布的杂光和相对高强度光斑的侧向发散投影。
3.如权利要求1所述的激光投影系统,其特征在于,所述多刻面输出面的侧向和核心刻面相对于彼此定向成限定侧向分布的杂光和相对高强度光斑的侧向会聚投影。
4.如权利要求1所述的激光投影系统,其特征在于,所述多刻面输出面的侧向和核心刻面相对于彼此定向成限定侧向分布的杂光的平行共面投影。
5.如权利要求4所述的激光投影系统,其特征在于,所述多刻面输出面的侧向和核心刻面相对于彼此定向成使所述侧向分布的杂光的平行共面投影与所述相对高强度光斑的投影沿所述波导区的侧向维度在角度上偏移。
6.如权利要求4所述的激光投影系统,其特征在于,所述多刻面输出面的侧向和核心刻面相对于彼此定向成使所述侧向分布的杂光的平行共面投影与所述相对高强度光斑的投影沿所述波导区的垂直维度在角度上偏移。
7.如权利要求1所述的激光投影系统,其特征在于,所述束投影光学装置被构造成通过所投影的相对高强度光斑的选择性反射来区别侧向分布的杂光和相对高强度光斑。
8.如权利要求1所述的激光投影系统,其特征在于,所述束投影光学装置被构造成通过所投影的相对高强度光斑的选择性透射来区别侧向分布的杂光和相对高强度光斑。
9.如权利要求1所述的激光投影系统,其特征在于,所述束投影光学装置被构造成通过所投影的杂光的选择性反射来区别侧向分布的杂光和相对高强度光斑。
10.如权利要求1所述的激光投影系统,其特征在于,所述束投影光学装置被构造成通过所投影的杂光的选择性吸收来区别侧向分布的杂光和相对高强度光斑。
11.如权利要求1所述的激光投影系统,其特征在于,所述束投影光学装置包括扫描反射镜,所述扫描反射镜的大小和位置被设计成有利于反射所述相对高强度光信号。
12.如权利要求11所述的激光投影系统,其特征在于,所述束投影光学装置包括扫描反射镜,所述扫描反射镜的大小和位置被设计成仅反射所述相对高强度光信号。
13.如权利要求11所述的激光投影系统,其特征在于,所述束投影光学装置进一步包括准直透镜,所述准直透镜定位成将从所述波长转换装置的输出面传播的发散或会聚光信号准直。
14.如权利要求13所述的激光投影系统,其特征在于,所述准直透镜定位在所述波长转换装置的输出面下游足够远处,以确保侧向分布的杂光的经准直部分不会被扫描反射镜反射。
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