[发明专利]排气冲洗结构和相关复合结构及制造方法

权利要求书

1.一种复合结构，其包括：

波纹状隔板，其在长度方向上延伸；以及

凹槽，具有设置在所述凹槽内的所述波纹状隔板。

2.根据权利要求1所述的复合结构，其中所述波纹状隔板和所述凹槽包含陶瓷基复合物(CMC)材料。

3.根据权利要求2所述的复合结构，进一步包括被设置为靠近所述波纹状隔板并且在所述凹槽内的体吸声器。

4.根据权利要求3所述的复合结构，其中所述体吸声器散置于所述波纹状隔板的回旋部分。

5.根据权利要求3所述的复合结构，其中所述体吸声器包含陶瓷材料。

6.根据权利要求2所述的复合结构，其中所述波纹状隔板和所述凹槽限定隔开的CMC凹槽构件，并且其中所述复合结构进一步包括第一面板和第二面板以及设置在所述面板之间的多个隔开的CMC凹槽构件。

7.根据权利要求2所述的复合结构，其中所述波纹状隔板和所述凹槽限定隔开的CMC凹槽构件，并且其中所述隔开的CMC凹槽构件在横向截面内具有切角部分。

8.一种排气冲洗结构，其包括：

壁元件；以及

设置在所述壁元件上的多个隔开的凹槽构件，其中每个隔开的凹槽构件沿着所述壁元件的长度方向延伸，其中每个隔开的凹槽构件被定位为与另一隔开的凹槽构件横向相邻，并且其中每个隔开的凹槽构件包括：

波纹状隔板，其沿长度方向延伸；以及

凹槽，具有设置在该凹槽内的所述波纹状隔板。

9.根据权利要求8所述的排气冲洗结构，其中包括每个波纹状隔板和每个凹槽的每个隔开的凹槽构件包含陶瓷基复合物(CMC)材料。

10.根据权利要求9所述的排气冲洗结构，其中所述壁元件限定沿其长度方向间隔开的多个区段，其中多个隔开的CMC凹槽构件被定位在所述壁元件的每个区段上，其中每个隔开的CMC凹槽构件沿着所述壁元件的各个区段在长度方向上延伸，并且其中每个隔开的CMC凹槽构件被定位为与所述壁元件的各个区段内的另一隔开的CMC凹槽构件横向相邻。

11.根据权利要求9所述的排气冲洗结构，其中每个隔开的CMC凹槽构件在长度方向上改变高度。

12.根据权利要求9所述的排气冲洗结构，其中每个隔开的CMC凹槽构件进一步包括被设置为靠近所述波纹状隔板并在各个所述凹槽内的体吸声器。

13.根据权利要求12所述的排气冲洗结构，其中所述体吸声器散置于所述波纹状隔板的回旋部分。

14.根据权利要求12所述的排气冲洗结构，其中所述体吸声器包含陶瓷材料。

15.根据权利要求9所述的排气冲洗结构，进一步包括设置在所述多个隔开的CMC凹槽构件的相对侧上的第一面板和第二面板。

16.根据权利要求9所述的排气冲洗结构，其中每个隔开的CMC凹槽构件在横向截面内具有切角部分。

17.一种制造复合结构的方法，其包括：

提供在长度方向上延伸的波纹状隔板；

固化所述波纹状隔板；

形成凹槽；以及

固化之后，将所述波纹状隔板设置在所述凹槽内以形成隔开的凹槽构件。

18.根据权利要求17所述的方法，其中提供所述波纹状隔板包括提供由陶瓷基复合物(CMC)材料形成的波纹状隔板，其中形成所述凹槽包括形成CMC材料的凹槽，并且其中将所述波纹状隔板设置在所述凹槽内形成隔开的CMC凹槽构件。

19.根据权利要求18所述的方法，进一步包括在将所述波纹状隔板设置在所述凹槽内之前将体吸声器定位为靠近所述波纹状隔板。

20.根据权利要求19所述的方法，其中定位所述体吸声器包括刚化所述体吸声器和将所述体吸声器的钢化块结合到所述波纹状隔板。

21.根据权利要求18所述的方法，进一步包括在所述第一面板和第二面板之间设置多个隔开的CMC凹槽构件。

22.根据权利要求15所述的方法，进一步包括将所述波纹状隔板结合在所述凹槽内。