[发明专利]涂敷的和平面化的聚合物膜

权利要求书

1.一种复合膜，包括聚合物衬底和平面化涂敷层，其中，所述平面化衬底的表面呈现出小于0.7nm的Ra值和/或小于0.9nm的Rq值，并且其中所述复合膜进一步包括通过原子层沉积在所述衬底的平面化表面上沉积的气体透过阻挡层。

2.根据权利要求1所述的复合膜，其中，所述聚合物衬底是双轴定向的。

3.根据权利要求1或2所述的复合膜，其中，所述聚合物衬底是热稳定、热固化、双轴定向的衬底。

4.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述聚合物衬底为聚酯衬底。

5.根据权利要求4所述的复合膜，其中，所述聚酯为聚(对苯二甲酸乙二醇酯)或聚(萘二甲酸乙二醇酯)。

6.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述聚合物衬底呈现出在23℃到小于40×10^-6/℃的衬底的玻璃化转变温度的温度范围内的线性热膨胀系数(CLTE)。

7.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述聚合物衬底在120℃下在30分钟内呈现出不大于0.05％的收缩量。

8.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述聚合物衬底在150℃下在30分钟内呈现出不大于0.05％的收缩量。

9.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述聚合物衬底在200℃下在10分钟内呈现出小于2％的收缩量。

10.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述聚合物衬底是光学透明的。

11.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述平面化涂敷层来自选自以下的组合物：

(i)有机涂层组合物，包括低分子量活性稀释剂；不饱和低聚物；溶剂；以及光敏引发剂；

(ii)有机/无机混杂涂层组合物，包括低分子量活性成分和/或不饱和低聚成分；无机颗粒，并且可选地进一步包括溶剂和/或光敏引发剂；

(iii)主要为无机的涂层组合物，包括包含在可聚合的主要为无机基质中的无机颗粒；以及

(iv)包括选自聚乙烯亚胺(PEI)、聚酯、聚乙烯醇(PVOH)、聚酰胺、聚硫醇和聚丙烯酸的可交联有机聚合物和交联剂的组合物。

12.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述平面化涂敷层来自选自有机/无机混杂涂层的组合物，所述混杂涂层来自包括低分子量活性成分和/或不饱和低聚成分；溶剂；以及无机颗粒，并且可选地进一步包括光敏引发剂的涂层组合物。

13.根据权利要求12所述的复合膜，其中，所述无机颗粒具有约0.005到约3μm的平均颗粒直径。

14.根据权利要求12或13所述的复合膜，其中，所述无机颗粒以按所述涂层组合物的固体成分的重量计约5％到约60％的量存在。

15.根据权利要求12、13或14所述的复合膜，其中，所述无机颗粒选自硅石和金属氧化物。

16.根据权利要求12到15中任一项所述的复合膜，其中，所述组合物是UV-可固化的。

17.根据权利要求11到16中任一项所述的复合膜，其中，所述低分子量活性成分选自单体丙烯酸酯和/或所述不饱和低聚成分选自丙烯酸酯、尿烷丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯。

18.根据任一前述权利要求所述的复合膜，其中，所述平面化涂敷层来自包括单体丙烯酸酯、硅石颗粒和光敏引发剂的UV-可固化组合物。

19.根据权利要求1到11中任一项所述的复合膜，其中，所述平面化涂敷层包括在聚硅氧烷基质中的无机颗粒。