[发明专利]可喷墨印刷的组合物和掩蔽方法

权利要求书

1.一种对基材表面进行修饰的方法，所述方法包括如下步骤：

a)在所述基材上喷墨印刷可辐射固化的掩蔽组合物，所述组合物包含具有活性甲硅烷基的化合物，所述组合物发生固化以形成碱可除去的图像；

b)将所述基材上的印刷组合物暴露在辐射下，以形成固化图像；

c)对上述基材的未掩蔽区域进行修饰；以及

d)利用碱性溶液对所述固化图像进行处理，以便使所述固化图像从所述基材上脱离。

2.权利要求1的方法，其中在(b)中，对所述印刷组合物进行的固化还包括对所述印刷组合物进行加热的步骤。

3.权利要求1或2的方法，其中在步骤(c)中，通过包括利用酸对所述基材表面进行处理的方法，对所述基材进行修饰。

4.权利要求3的方法，其中在步骤(c)中，利用pH为5.0以下的酸性溶液对所述基材进行处理，并且在所述条件下所述固化图像仍粘附在所述基材上。

5.权利要求3或4的方法，其中在步骤(c)中，使用酸对所述基材进行腐蚀。

6.权利要求5的方法，其中在利用酸进行处理时，将铜层从所述基材表面上腐蚀掉。

7.权利要求1或2的方法，其中在步骤(c)中，通过包括将所述基材暴露在升高的温度下的方法，对所述基材进行修饰。

8.权利要求7的方法，其中所述固化图像经受至少100℃的温度至少10分钟而无明显劣化，且在步骤(c)中通过包括使用100℃以上的温度的方法对所述基材进行修饰。

9.权利要求7或8的方法，其中使用等离子气相沉积法对所述基材进行修饰。

10.权利要求9的方法，其中在所述基材上沉积导电层。

11.任一项前述权利要求的方法，其中所述固化膜在碱性溶液中溶解或剥落。

12.一种适合用作掩膜的可辐射固化、可喷墨印刷的组合物，所述组合物包含具有活性甲硅烷基的化合物和不含活性甲硅烷基的可聚合单体。

13.权利要求12的组合物，其中所述具有活性甲硅烷基的化合物具有单个活性甲硅烷基。

14.一种适合用作掩膜的可辐射固化、可喷墨印刷的组合物，所述组合物包含具有单个活性甲硅烷基的化合物。

15.权利要求14的组合物，其还包含不含活性甲硅烷基的可聚合单体。

16.权利要求12、13或15中任一项的组合物，其包含至少10wt％的不含活性甲硅烷基的可聚合单体。

17.权利要求12、13、15或16中任一项的组合物，其中所述不含活性甲硅烷基的可聚合单体是可自由基固化的单体，且所述组合物任选还包含自由基光引发剂。

18.权利要求12、13、15或16中任一项的组合物，其中所述不含活性甲硅烷基的可聚合单体是包含可酸固化的官能团的可阳离子固化的单体，所述可酸固化的官能团不是活性甲硅烷基。

19.权利要求13或14的组合物，其中所述具有单个活性甲硅烷基的成分是具有式R¹O-Si(-R²)₃的硅烷，其中R¹和R²独立地为C_1-4烷基。

20.权利要求12～18中任一项的组合物，其中所述具有活性甲硅烷基的化合物包含不是活性甲硅烷基的其他可酸固化的官能团。

21.权利要求18或20的组合物，其中所述不是活性甲硅烷基的可酸固化的官能团是环氧官能团。

22.权利要求20的组合物，其中所述具有活性甲硅烷基的化合物是环氧封端的硅烷。

23.权利要求12～22中任一项的组合物，其包含阳离子光引发剂。

24.权利要求12～23中任一项的组合物，其包含具有活性甲硅烷基的成分，所述活性甲硅烷基具有式X-Si(-OR)₃，其中X和R独立地为C_1-4烷基。