[发明专利]电磁遮掩和转换装置、方法和系统

权利要求书

1.一种装置，包括：

第一电磁换能器，其在第一频率处可操作并具有第一能视域；

第二电磁换能器，其在不同于所述第一频率的第二频率处可操作，所述第二电磁换能器至少部分地位于所述第一能视域内；以及

第一电磁遮掩结构，其可操作以使所述第一频率处的电磁辐射至少部分地在所述第二电磁换能器周围转向。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述第二具有第二能视域，所述第一至少部分地位于所述第二能视域内，并且所述装置还包括：

第二电磁遮掩结构，其可操作以使所述第二频率处的电磁辐射至少部分地在所述第一周围转向。

3.如权利要求2所述的装置，其中所述第一位于第一空间位置处，并且所述装置还包括：

第一电磁转换结构，其可操作以对于在所述第一频带中的电磁辐射提供与所述第一空间位置不同的所述第一的第一表观位置。

4.如权利要求3所述的装置，还包括：

聚焦结构，其限定聚焦区，其中所述第一表观位置在所述聚焦区内或实质上靠近所述聚焦区。

5.如权利要求4所述的装置，其中所述聚焦结构包括反射结构。

6.如权利要求4所述的装置，其中所述聚焦结构包括折射结构。

7.如权利要求4所述的装置，其中所述聚焦结构包括衍射结构。

8.如权利要求4所述的装置，其中所述聚焦结构以f数值f/x为特征，其中x小于或等于5。

9.如权利要求8所述的装置，其中x小于或等于2。

10.如权利要求9所述的装置，其中x小于或等于1。

11.如权利要求3所述的装置，其中所述第二位于第二空间位置处，并且所述第一表观位置实质上等于所述第二空间位置。

12.如权利要求11所述的装置，还包括：

聚焦结构，其限定聚焦区，其中所述第一表观位置在所述聚焦区内或实质上靠近所述聚焦区。

13.如权利要求3所述的装置，其中所述第二位于第二空间位置处，并且所述装置还包括：

第二电磁转换结构，其可操作以对于在所述第二频率处的电磁辐射提供与所述第二空间位置不同的所述第二的第二表观位置。

14.如权利要求13所述的装置，其中所述第二表观位置在所述第一表观位置处或实质上靠近所述第一表观位置。

15.如权利要求14所述的装置，还包括：

聚焦结构，其限定聚焦区，其中所述第一表观位置在所述聚焦区内或实质上靠近所述聚焦区。

16.如权利要求1所述的装置，其中所述第一位于第一空间位置处，并且所述装置还包括：

第一电磁转换结构，其可操作以对于在所述第一频率处的电磁辐射提供与所述第一空间位置不同的所述第一的第一表观位置。

17.如权利要求16所述的装置，其中所述第二位于在所述第一表观位置处或实质上靠近所述第一表观位置的第二空间位置处。

18.如权利要求17所述的装置，还包括：

聚焦结构，其限定聚焦区，其中所述第一表观位置在所述聚焦区内或实质上靠近所述聚焦区。

19.如权利要求16所述的装置，其中所述第二位于第二空间位置处，并且所述装置还包括：

第二电磁转换结构，其可操作以对于在所述第二频率处的电磁辐射提供与所述第二空间位置不同的所述第二的第二表观位置。

20.如权利要求19所述的装置，其中所述第二表观位置在所述第一表观位置处或实质上靠近所述第一表观位置。

21.如权利要求20所述的装置，还包括：

聚焦结构，其限定聚焦区，其中所述第一表观位置在所述聚焦区内或实质上靠近所述聚焦区。

22.如权利要求1所述的装置，其中所述第一位于第一空间位置处，所述第二位于第二空间位置处，并且所述装置还包括：

电磁转换结构，其可操作以对于在所述第二频率处的电磁辐射提供与所述第二空间位置不同的所述第二的表观位置。