[发明专利]立方晶氮化硼烧结体工具有效
申请号: | 200980109070.8 | 申请日: | 2009-03-19 |
公开(公告)号: | CN101970156A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 大友克久 | 申请(专利权)人: | 株式会社图格莱 |
主分类号: | B23B27/14 | 分类号: | B23B27/14;B23B27/20;C04B35/583;C04B41/87;C04B41/89 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 立方 氮化 烧结 工具 | ||
1.一种立方晶氮化硼烧结体工具,其由立方晶氮化硼、结合相和不可避免的杂质构成,所述立方晶氮化硼烧结体工具的特征在于:
具备后隙面、前倾面、倒棱珩磨面、形成于后隙面和倒棱珩磨面交叉的棱线上的圆角珩磨面,圆角珩磨面的形状的曲率半径R为10~50μm的范围;
设定立方晶氮化硼的平均粒径的5倍以上为基准长度S,倒棱珩磨面的基准长度S中所含的立方晶氮化硼的断面曲线的长度的合计为LCC,倒棱珩磨面的基准长度S中所含的结合相的断面曲线的长度的合计为LCB,LCC与LCB之比为PC(PC=LCC/LCB),圆角珩磨面的基准长度S中所含的立方晶氮化硼的断面曲线的长度的合计为LRC,圆角珩磨面的基准长度S中所含的结合相的断面曲线的长度的合计为LRB,LRC与LRB之比为PR(PR=LRC/LRB),则
PR与PC之比(PR/PC)为1.2≤PR/PC≤8.0。
2.根据权利要求1所述的立方晶氮化硼烧结体工具,其中,含有40~90体积%的立方晶氮化硼,剩余部分为结合相及不可避免的杂质。
3.根据权利要求1或2所述的立方晶氮化硼烧结体工具,其中,立方晶氮化硼具有0.30~6.0μm的平均粒径。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的立方晶氮化硼烧结体工具,其中,结合相为选自元素周期表4a、5a、6a族元素、Al、Si、Mg、Co、Ni的金属、氮化物、碳化物、硼化物、氧化物及它们的互固溶体之中的至少1种。
5.一种涂覆的立方晶氮化硼烧结体工具,其在权利要求1~4中任一项所述的立方晶氮化硼烧结体工具的表面上涂覆有覆盖膜。
6.根据权利要求5所述的涂覆的立方晶氮化硼烧结体工具,其中,覆盖膜由选自元素周期表4a、5a、6a族元素、Al、Si、B、Y、Mn的氮化物、碳化物、氧化物及它们的互固溶体之中的至少1种形成。
7.根据权利要求5或6所述的涂覆的立方晶氮化硼烧结体工具,其中,覆盖膜为立方晶结晶。
8.根据权利要求5~7中任一项所述的涂覆的立方晶氮化硼烧结体工具,其中,覆盖膜由选自含有Ti和Al的氮化物、碳化物、氧化物及它们的互固溶体之中的至少1种形成。
9.根据权利要求5~8中任一项所述的涂覆的立方晶氮化硼烧结体工具,其中,覆盖膜的组成为(Ti(1-a-b)AlaMb)(X);式中,M表示选自Y、Cr、Si、Zr、Nb、Mn、W、Hf、V、B之中的至少1种元素,X表示选自C、N、O之中的至少1种元素,a表示Al相对于Ti、Al、M合计的原子比,b表示M相对于Ti、Al、M合计的原子比,并且0.1≤a≤0.7、0.002≤b≤0.1。
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