[发明专利]用于宽传导套件的方法和设备

权利要求书

1.一种用于控制等离子体处理室内的气流传导的设备，所述等离子体处理室被配置有面对下电极设置的上电极，该下电极适于支撑衬底，所述设备包含：

被配置为同心围绕所述下电极的接地环，所述接地环包括形成于其中的第一组径向狭槽；

约束环装置，所述约束环装置包括至少第一组可折叠约束环和第二组可折叠约束环，所述第二组可折叠约束环被配置为可移动地耦合于所述第一组可折叠约束环；以及

被配置为至少折叠和展开所述第一组可折叠约束环和所述第二组可折叠约束环以控制穿过所述第一组径向狭槽的气流传导在以下两种状态之间的机构：

(a)ON状态，其中穿过所述第一组径向狭槽的气流不被所述第二组可折叠约束环阻碍，以及

(b)OFF状态，其中穿过所述第一组径向狭槽的所述气流被所述第二组可折叠环阻碍。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述接地环是由导电材料形成的。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述导电材料是铝。

4.根据权利要求1所述的设备，进一步包含置于所述接地环上方的覆盖环，所述覆盖环包括形成于其中的第二组径向狭槽。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述覆盖环是由石英形成的。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一组可折叠约束环和所述第二组可折叠约束环中的至少一个是由石英形成的。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一组可折叠约束环包括至少一个约束环。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述第一组可折叠约束环是能够在垂直于所述接地环的平面的方向上移动的以控制穿过所述第一组可折叠约束环之间的第一组间隙的气流。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二组可折叠约束环包括至少一个约束环。

10.根据权利要求9所述的设备，其中所述第二组可折叠约束环是能够在垂直于所述接地环的平面的方向上移动的以控制穿过所述第一组可折叠约束环之间的第二组间隙的气流。

11.根据权利要求10所述的设备，其中所述第一组可折叠约束环之间的所述第二组间隙中的所述每个间隙被配置为具有不同的间隙高度。

12.根据权利要求1所述的设备，其中所述机构至少包括：

轴；

耦合于所述轴的第一活塞，所述第一活塞被置于所述第一组可折叠约束环的第一环的第一室内部；以及

耦合于所述第一组可折叠约束环的第二环的第二活塞，所述第二活塞被置于所述第二组可折叠约束环的第一环的第二室内部，

其中所述第一组可折叠约束环和所述第二组可折叠约束环中的至少一个

(i)当所述轴在垂直于所述接地环的平面的方向上向上移动时展开，或

(ii)当所述轴在垂直于所述接地环的平面的方向上向下移动时折叠。

13.一种控制等离子体处理室中的气流传导的方法，所述方法包括：

在所述等离子体处理室中支撑衬底，其中所述等离子体处理室配置有与下电极相对设置的上电极，所述等离子体处理室包含一个设备，该设备至少包括：

被配置为同心围绕所述下电极的接地环，所述接地环包括形成于其中的第一组径向狭槽，

约束环装置，所述约束环装置包括至少第一组可折叠约束环和第二组可折叠约束环，所述第二组可折叠约束环被配置为可移动地耦合于所述第一组可折叠约束环，以及

被配置为至少折叠和展开所述第一组可折叠约束环和所述第二组可折叠约束环以控制穿过所述第一组径向狭槽的气流传导在以下两种状态之间的机构：

(a)ON状态，其中穿过所述第一组径向狭槽的气流不被所述第二组可折叠约束环阻碍，以及

(b)OFF状态，其中穿过所述第一组径向狭槽的所述气流被所述第二组可折叠环阻碍；

将所述气体激励为等离子体；以及

操作所述机构以控制穿过所述第一组径向狭槽和所述第二组径向狭槽的所述气流传导。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述接地环是由导电材料形成的。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述导电材料是铝。